公开(公告)号：CN115142033A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210486987.7

申请日：2022-05-06

Applicant: 北京大学深圳研究生院

Inventor： 吴忠振 ,  李熙腾 ,  马正永

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08 ,  C23C14/54 ,  C01F7/422

Abstract: 本发明公开一种非化学计量比氧化铝材料及其制备方法。所述制备方法包括步骤：将基材置于腔室中，对所述腔室进行抽真空；在所述抽真空之后，对所述基材进行表面处理；采用持续高功率磁控溅射技术，对铝靶进行溅射，同时通入含氧的反应气体，使得在所述基材上沉积得到非化学计量比的氧化铝材料。本发明采用持续高功率磁控溅射技术，依靠其高效溅射产额特点，扩展了Al‑O反应磁控溅射过程中的含氧的反应气体流量化学活性窗口，延缓了中毒现象，实现了宽范围AlOx材料非化学计量比的精确调控。通过非化学计量比的调控，实现了AlOx材料光学、电学等各方面性能的调控，且具有高的沉积速率，沉积速率可高达50～400nm/min。

公开(公告)号：CN115142033B

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN202210486987.7

申请日：2022-05-06

Applicant: 北京大学深圳研究生院

Inventor： 吴忠振 ,  李熙腾 ,  马正永

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08 ,  C23C14/54 ,  C01F7/422

Abstract: 本发明公开一种非化学计量比氧化铝材料及其制备方法。所述制备方法包括步骤：将基材置于腔室中，对所述腔室进行抽真空；在所述抽真空之后，对所述基材进行表面处理；采用持续高功率磁控溅射技术，对铝靶进行溅射，同时通入含氧的反应气体，使得在所述基材上沉积得到非化学计量比的氧化铝材料。本发明采用持续高功率磁控溅射技术，依靠其高效溅射产额特点，扩展了Al‑O反应磁控溅射过程中的含氧的反应气体流量化学活性窗口，延缓了中毒现象，实现了宽范围AlOx材料非化学计量比的精确调控。通过非化学计量比的调控，实现了AlOx材料光学、电学等各方面性能的调控，且具有高的沉积速率，沉积速率可高达50～400nm/min。