一种氧化锌掺钴室温稀磁半导体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN101016164A

    公开(公告)日:2007-08-15

    申请号:CN200710003498.7

    申请日:2007-02-09

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供一种室温稀磁宽禁带半导体氧化锌掺钴材料的方法,属于新型半导体自旋电子器件材料制备领域。该方法首先采用固相烧结法制备ZnO中掺入Co杂质,即将高纯的ZnO粉末和钴的氧化物粉末按一定的成份配比混合后,使用行星式球磨机在玛瑙罐中混料长时间湿法球磨,球磨料经烘干、研磨,反应烧结,再特殊退火处理,即使用一定比例的惰性气体和氢气混合气体,对掺杂的氧化锌稀磁半导体材料进行退火处理。退火后的CoxZn1-xO材料具有室温铁磁性,采用本发明可制得具有室温铁磁性的掺钴氧化锌稀磁半导体材料。

    一种氧化钛掺钴室温稀磁半导体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN101017720A

    公开(公告)日:2007-08-15

    申请号:CN200710001132.6

    申请日:2007-01-19

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供一种室温铁磁掺钴氧化钛稀磁半导体材料的制备方法,属于新型半导体自旋电子器件材料制备领域。该方法首先将Ti氧化物和Co氧化物进行混合,采用固相烧结反应法制备CoxTi1-xO2材料,然后将CoxTi1-xO2材料压制成片,在含有氢气的气氛下进行退火处理,退火后的CoxTi1-xO2材料具有室温铁磁性。采用本发明制得的室温铁磁性的掺钴氧化钛稀磁半导体材料,可用于脉冲激光沉积以及反应溅射等方法制备室温铁磁性CoxTi1-xO2薄膜时的靶材,具有十分重要的研究价值和广阔的应用前景。

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