一种原位生长制备半导体纳米管的方法

    公开(公告)号:CN101008106A

    公开(公告)日:2007-08-01

    申请号:CN200610002680.6

    申请日:2006-01-27

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 一种制备半导体纳米管的方法,不必借助模板,能够在不同基底上原位生长出晶化程度良好的半导体纳米管,包括步骤:1)将镀有金属薄膜的基底或金属箔放入可抽真空的容器中,抽真空后输入惰性气体和反应性气体的混合气,所述的反应性气体是能够和金属反应合成半导体的气体;2)引入低温等离子体使反应性气体生成活性物种,同时将基底或金属箔的温度维持在一范围内使半导体纳米管生长,所述的温度范围不低于200℃,不高于该基底上的金属薄膜或金属箔的熔点以上200℃,所述的半导体的阳离子来自金属箔或金属薄膜,阴离子来自反应性气体;3)保持混合气的输入,直至反应进行完全后结束。

    具有特定表面性质的稀土氧化物粉体及其制备方法

    公开(公告)号:CN100406387C

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200510059947.0

    申请日:2005-04-04

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供了一种表面为特定规则晶面、具有特定表面性质的稀土族元素氧化物粉体及其制备方法。所述的稀土族元素的氧化物粉体包含表面为催化活性较高的{100}和{110}晶面的颗粒;所述的制备方法包括如下步骤:(1)将稀土放于可抽真空的加热设备中,抽真空后向加热设备中通入氢气和惰性气体的混合气;(2)在氢气和惰性气体的混合气氛下对稀土加强热使其蒸发,稀土蒸气在冷凝过程中吸氢形成稀土氢化物粉体颗粒;(3)将稀土氢化物粉体颗粒收集起来放在含氧气氛中氧化。整个制备过程是干式工艺,不仅步骤简单、所需的设备简单,而且清洁无污染,并且适用于大规模的工业生产。

    一种原位生长制备半导体纳米管的方法

    公开(公告)号:CN100436661C

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200610002680.6

    申请日:2006-01-27

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 一种制备半导体纳米管的方法,不必借助模板,能够在不同基底上原位生长出晶化程度良好的半导体纳米管,包括步骤:1)将镀有金属薄膜的基底或金属箔放入可抽真空的容器中,抽真空后输入惰性气体和反应性气体的混合气,所述的反应性气体是能够和金属反应合成半导体的气体;2)引入低温等离子体使反应性气体生成活性物种,同时将基底或金属箔的温度维持在一范围内使半导体纳米管生长,所述的温度范围不低于200℃,不高于该基底上的金属薄膜或金属箔的熔点以上200℃,所述的半导体的阳离子来自金属箔或金属薄膜,阴离子来自反应性气体;3)保持混合气的输入,直至反应进行完全后结束。

    具有特定表面性质的稀土氧化物粉体及其制备方法

    公开(公告)号:CN1847152A

    公开(公告)日:2006-10-18

    申请号:CN200510059947.0

    申请日:2005-04-04

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供了一种表面为特定规则晶面、具有特定表面性质的稀土族元素氧化物粉体及其制备方法。所述的稀土族元素的氧化物粉体包含表面为催化活性较高的{100}和{110}晶面的颗粒;所述的制备方法包括如下步骤:(1)将稀土放于可抽真空的加热设备中,抽真空后向加热设备中通入氢气和惰性气体的混合气;(2)在氢气和惰性气体的混合气氛下对稀土加强热使其蒸发,稀土蒸气在冷凝过程中吸氢形成稀土氢化物粉体颗粒;(3)将稀土氢化物粉体颗粒收集起来放在含氧气氛中氧化。整个制备过程是干式工艺,不仅步骤简单、所需的设备简单,而且清洁无污染,并且适用于大规模的工业生产。

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