公开(公告)号：CN119787839A

公开(公告)日：2025-04-08

申请号：CN202411853347.0

申请日：2024-12-16

Applicant: 北京四方继保工程技术有限公司 ,  北京四方继保自动化股份有限公司

Inventor： 李彦 ,  张森 ,  李想 ,  赵光娜 ,  何岩 ,  赵志勇 ,  刘树 ,  刘坤 ,  甄宝 ,  魏贺明 ,  薛晓婕 ,  张辉 ,  李广进 ,  王立华 ,  刘红媛

IPC: H02M7/00 ,  H02M1/00 ,  H02G7/16

Abstract: 本发明涉及电力电子系统直流融冰装置技术领域，提供一种水冷式直流融冰整流功率阀组，其包括机柜、阀串压装模块、水冷电阻装配模块、电容模块、进水管路组件和出水管路组件，机柜内形成有安装空间；阀串压装模块设置于安装空间内，且位于安装空间左侧的前方；水冷电阻装配模块设置于安装空间内，且位于安装空间中部的后方；电容模块设置于安装空间内，且位于电容模块右侧的后方；进水管路组件设置于机柜的外侧，且位于机柜左侧的后方；出水管路组件设置于机柜的外侧，且位于机柜后侧的中部；其中，阀串压装模块、水冷电阻装配模块和电容模块均沿安装空间的高度方向延伸。本申请实现了阀组结构的紧凑排布，同时模块化的设计便于安装维护和拓展。

公开(公告)号：CN104498886A

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201410785414.X

申请日：2014-12-17

Applicant: 北京四方继保自动化股份有限公司

Inventor： 张宁 ,  余新平 ,  张森 ,  卓胜 ,  张至树

IPC: C23C14/35

CPC classification number: C23C14/35

Abstract: 本发明公开了一种用于提高磁控溅射平面靶材利用率的方法及装置。本申请采用靶材固定、阴极移动的设计。将绑定在背板上的平面靶材用压靶框固定在阴极背板上，阴极背板固定有靶材的一侧置于真空腔室内。排满磁铁的磁轭为磁控溅射提供稳定的磁场，在电机的带动下装有滑动轴承的磁轭在导轨上匀速往复运动，通过光电、行程开关的配合精确调整磁轭的移动速度和行程。本申请通过靶材固定阴极移动的方式拓宽了靶材表面的可溅射区域，提高了平面靶材利用率。阴极整体设计简单装配方便，其与基片架保持一定的相对速度进而保证溅射薄膜的均匀性。