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公开(公告)号：CN106269452A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610739227.7
申请日：2016-08-26
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种组合式多频率超声波/兆声波清洗装置，包括本体和超声波/兆声波频率控制单元，本体内设有超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，超声波/兆声波发生机构设有若干具有不同固有频率并组合为整体的压电材料，底部石英部件设有石英微共振腔阵列，石英微共振腔阵列自本体下端面的开口伸出，超声波/兆声波频率控制单元连接在信号源和压电材料之间，可通过石英微共振腔阵列对传播方向与晶圆表面方向不垂直的超声波/兆声波能量进行选择性去除，并通过超声波/兆声波频率控制单元将不同频率的电信号随机导入对应的压电材料，使超声波/兆声波发生机构产生的超声波/兆声波振动频率动态变化，实现对图形晶圆的无损伤清洗。
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公开(公告)号：CN106238302B
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201610739229.6
申请日：2016-08-26
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种频率动态变化的超声波/兆声波清洗装置，包括本体和超声波/兆声波频率控制单元，本体内设有超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，超声波/兆声波发生机构设有压电材料，压电材料连接本体外的信号源，底部石英部件设有石英微共振腔阵列，石英微共振腔阵列自本体下端面的开口伸出，超声波/兆声波频率控制单元连接在信号源和压电材料之间，可通过石英微共振腔阵列对传播方向与晶圆表面方向不垂直的超声波/兆声波能量进行选择性去除，并通过超声波/兆声波频率控制单元改变信号源输出电信号的频率，使压电材料产生的超声波/兆声波振动频率动态变化，实现对图形晶圆的无损伤清洗。
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公开(公告)号：CN103013523B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201210540299.0
申请日：2012-12-13
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
CPC分类号： C09K13/04 , G03F1/82 , G03F7/423 , H01L21/02052 , H01L21/31133
摘要： 本发明提供一种蚀刻剂，其是由硫酸和过硫酸铵组成，过滤酸铵的质量浓度为1-25%。硫酸为98%质量浓度的硫酸。本发明还提出制备该蚀刻剂的方法，其是将过硫酸铵加入100-200℃的硫酸中。本发明用过硫酸铵替代氧化剂过氧化氢。过硫酸铵是一种粉末，使操作更简单；本发明提出的蚀刻剂处理晶片或光掩模，因为硫酸是与有机物反应的副产物，而不是水，所以多次清洗后蚀刻剂也不会被稀释，节约了生产成本。
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公开(公告)号：CN103013523A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210540299.0
申请日：2012-12-13
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
CPC分类号： C09K13/04 , G03F1/82 , G03F7/423 , H01L21/02052 , H01L21/31133
摘要： 本发明提供一种蚀刻剂，其是由硫酸和过硫酸铵组成，过滤酸铵的质量浓度为1-25%。硫酸为98%质量浓度的硫酸。本发明还提出制备该蚀刻剂的方法，其是将过硫酸铵加入100-200℃的硫酸中。本发明用过硫酸铵替代氧化剂过氧化氢。过硫酸铵是一种粉末，使操作更简单；本发明提出的蚀刻剂处理晶片或光掩模，因为硫酸是与有机物反应的副产物，而不是水，所以多次清洗后蚀刻剂也不会被稀释，节约了生产成本。
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公开(公告)号：CN106238302A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610739229.6
申请日：2016-08-26
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种频率动态变化的超声波/兆声波清洗装置，包括本体和超声波/兆声波频率控制单元，本体内设有超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，超声波/兆声波发生机构设有压电材料，压电材料连接本体外的信号源，底部石英部件设有石英微共振腔阵列，石英微共振腔阵列自本体下端面的开口伸出，超声波/兆声波频率控制单元连接在信号源和压电材料之间，可通过石英微共振腔阵列对传播方向与晶圆表面方向不垂直的超声波/兆声波能量进行选择性去除，并通过超声波/兆声波频率控制单元改变信号源输出电信号的频率，使压电材料产生的超声波/兆声波振动频率动态变化，实现对图形晶圆的无损伤清洗。
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公开(公告)号：CN106269452B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201610739227.7
申请日：2016-08-26
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种组合式多频率超声波/兆声波清洗装置，包括本体和超声波/兆声波频率控制单元，本体内设有超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，超声波/兆声波发生机构设有若干具有不同固有频率并组合为整体的压电材料，底部石英部件设有石英微共振腔阵列，石英微共振腔阵列自本体下端面的开口伸出，超声波/兆声波频率控制单元连接在信号源和压电材料之间，可通过石英微共振腔阵列对传播方向与晶圆表面方向不垂直的超声波/兆声波能量进行选择性去除，并通过超声波/兆声波频率控制单元将不同频率的电信号随机导入对应的压电材料，使超声波/兆声波发生机构产生的超声波/兆声波振动频率动态变化，实现对图形晶圆的无损伤清洗。
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公开(公告)号：CN103235491A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310117969.2
申请日：2013-04-07
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 本发明提供了一种新型的抗蚀剂剥离液，其为分析纯高氯酸和分析纯硫酸按1:6-20的体积比复配得到的混合液。使用时，将待处理的晶片投入到所述抗蚀剂剥离液中5至20分钟即可。本发明提供的抗蚀剂剥离液，与传统的过氧化氢和硫酸的混合液相比，具有更高的氧化电位，可用作剥离抗蚀剂的替代品，而不必采用高温SPM工艺。
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