公开(公告)号：CN112210301A

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN202010660584.0

申请日：2020-07-10

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 金智慧 ,  崔辅爀 ,  李在祐 ,  李在益

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3105

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光多层膜的化学机械抛光浆料组合物，根据本发明的一实施例的用于抛光多层膜的化学机械抛光浆料组合物包括：抛光粒子；表面粗糙度(roughness)改进剂，包括水溶性聚合物；抛光调节剂，包括有机酸；以及抛光轮廓改进剂，包括非离子表面活性剂。

公开(公告)号：CN113260687B

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN201980084742.8

申请日：2019-11-18

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 李在祐 ,  金智慧 ,  崔辅爀

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

公开(公告)号：CN114867802A

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN202080088088.0

申请日：2020-10-30

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 崔辅爀 ,  李载鹤 ,  李在祐 ,  金智慧 ,  李在益

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光有机膜的浆料组合物，根据本发明一实施例的用于抛光有机膜的浆料组合物包括：研磨粒子；包括有机酸、无机酸或两者的抛光调节剂；包括酰胺类化合物或酰胺类聚合物的有机膜抛光增强剂；氧化剂；以及pH调节剂。

公开(公告)号：CN113260687A

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN201980084742.8

申请日：2019-11-18

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 李在祐 ,  金智慧 ,  崔辅爀

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光多晶硅的CMP浆料组合物及利用其的抛光方法。根据本发明的实施方式的用于抛光多晶硅的CMP浆料组合物包括抛光粒子；表面粗糙度改进剂；包含有机酸的抛光调节剂；以及pH调节剂。

公开(公告)号：CN114867802B

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202080088088.0

申请日：2020-10-30

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 崔辅爀 ,  李载鹤 ,  李在祐 ,  金智慧 ,  李在益

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光有机膜的浆料组合物，根据本发明一实施例的用于抛光有机膜的浆料组合物包括：研磨粒子；包括有机酸、无机酸或两者的抛光调节剂；包括酰胺类化合物或酰胺类聚合物的有机膜抛光增强剂；氧化剂；以及pH调节剂。