公开(公告)号：CN101930167A

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN201010214092.5

申请日：2010-06-24

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  英特尔公司

Inventor： 白崎享 ,  戴维·穆舍尔 ,  基肖尔·查克拉瓦蒂 ,  格蕾斯·额

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；及提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有包含曲线的凹陷部的形状。

公开(公告)号：CN101930165B

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN201010214013.0

申请日：2010-06-24

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  英特尔公司

Inventor： 白崎享 ,  戴维·穆舍尔 ,  基肖尔·查克拉瓦蒂 ,  格蕾斯·额

IPC: G03F1/64

CPC classification number: G03F1/64

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架，其特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行的基本四边形的两侧边具有四边形形状的凹陷部的形状。另外，本发明的光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于该防护膜框架的一端面，且在另一端面设置曝光底版粘接剂。

公开(公告)号：CN101930167B

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN201010214092.5

申请日：2010-06-24

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  英特尔公司

Inventor： 白崎享 ,  戴维·穆舍尔 ,  基肖尔·查克拉瓦蒂 ,  格蕾斯·额

IPC: G03F1/64

CPC classification number: G03F1/64

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；及提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有包含曲线的凹陷部的形状。

公开(公告)号：CN101930166A

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN201010214029.1

申请日：2010-06-24

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  英特尔公司

Inventor： 白崎享 ,  戴维·穆舍尔 ,  基肖尔·查克拉瓦蒂 ,  格蕾斯·额

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有至少一个三角形的凹陷部的形状。另外，本发明的光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于该防护膜框架的一端面，且在另一端面设置曝光底版粘接剂。

公开(公告)号：CN101930166B

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN201010214029.1

申请日：2010-06-24

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  英特尔公司

Inventor： 白崎享 ,  戴维·穆舍尔 ,  基肖尔·查克拉瓦蒂 ,  格蕾斯·额

IPC: G03F1/64

CPC classification number: G03F1/64

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有至少一个三角形的凹陷部的形状。另外，本发明的光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于该防护膜框架的一端面，且在另一端面设置曝光底版粘接剂。

公开(公告)号：CN101930165A

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN201010214013.0

申请日：2010-06-24

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  英特尔公司

Inventor： 白崎享 ,  戴维·穆舍尔 ,  基肖尔·查克拉瓦蒂 ,  格蕾斯·额

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架，其特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行的基本四边形的两侧边具有四边形形状的凹陷部的形状。另外，本发明的光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于该防护膜框架的一端面，且在另一端面设置曝光底版粘接剂。