公开(公告)号：CN119855704A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202380054890.1

申请日：2023-07-20

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  株式会社雷尼亚斯

Inventor： 吉井良介 ,  后藤优太 ,  土田和弘 ,  通口浩一 ,  岩井和史 ,  足立真希 ,  天野辽

IPC: B32B27/00 ,  B32B27/18 ,  B32B38/18

Abstract: 提供被覆物品，其具有树脂基材、在所述树脂基材上设置的底漆层、在所述底漆层上设置的硬涂层、和在所述硬涂层的表层部形成的光改性层，所述底漆层为包含(A)乙烯基系(共)聚合物和(B)具有规定的中值直径的无机粒子的底漆组合物的固化被膜，(A)乙烯基系(共)聚合物包含(A‑1)具有烷氧基甲硅烷基的乙烯基系(共)聚合物，所述底漆层的膜厚为1～20μm，所述硬涂层为包含(a)有机硅树脂、(b)胶体二氧化硅、(c)紫外线吸收剂的有机硅组合物的固化被膜，所述硬涂层的膜厚为1～15μm。

公开(公告)号：CN118265743A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202280074867.4

申请日：2022-11-09

Applicant: 国立大学法人东京大学 ,  信越化学工业株式会社

Inventor： 相田卓三 ,  伊藤喜光 ,  藤泽雄太 ,  后藤优太 ,  峯村正彦 ,  中川秀夫

IPC: C08G77/54

Abstract: [解决课题]提供自修复性优异的主链具有硅氧烷键的新型的聚合物材料。[解决手段]一种共聚物，其包含下述通式(I)所示的至少1种重复单元和下述通式(II)所示的至少1种重复单元。#imgabs0#