抗蚀剂材料及图案形成方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116774519A

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN202310253950.4

    申请日:2023-03-16

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的目的为提供具有更优于已知的正型抗蚀剂材料的感度及分辨率、溶解对比度,边缘粗糙度、尺寸偏差小,且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料,其特征为含有:(Ia)含有包含羟基或羧基的重复单元(A)的聚合物、(II)具有下式(1)表示的结构的交联剂、(III)具有下式(2)表示的结构的热酸产生剂、(IV)有机溶剂、及(V)会因为活性光线或放射线的照射而分解并产生酸的成分。#imgabs0#

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