-
公开(公告)号:CN101817170A
公开(公告)日:2010-09-01
申请号:CN201010100490.4
申请日:2010-01-25
Applicant: 信浓电气制炼株式会社
CPC classification number: B24D7/06 , B24B53/013 , B24B53/02 , B24B53/12
Abstract: 本发明提供平台修正用磨石,设于抛光装置,该抛光装置是于抛光平台上设置具有修正用磨石固持用孔部的平台修正用载体,且在该载体之孔部固持修正用磨石,使抛光平台及载体分别旋转,并对该抛光平台供给游离磨粒以将该抛光平台修正抛光;且该载体之孔部所配置修正用磨石的形状是圆形之中心部角度为180°~90°的扇状。依本发明,实际使用游离磨粒将抛光工作件抛光时,平台表面所存在之开放的粒状石墨孔充分保持着磨粒,因该保持力增加而可得到稳定的抛光力,而且细微平台面转印至抛光工作件,可得到表面粗度良好的待加工物。
-
公开(公告)号:CN1621202A
公开(公告)日:2005-06-01
申请号:CN200410094685.7
申请日:2004-11-12
Applicant: 信浓电气制炼株式会社
IPC: B24D7/18
CPC classification number: B24D18/0009 , B24D3/32 , B24D13/147 , B29C67/246
Abstract: 一种聚亚胺酯研磨工具的制造方法,该方法包含下列步骤:(1)混合一或更多类型的多元醇组成的步骤,该多元醇系选自于由含有无机研磨颗粒的聚醚多元醇及聚酯多元醇所构成的族群;(2)利用旋转-静止式混合器,以均匀混合与无机研磨颗粒相混合的多元醇和与无机研磨颗粒相混合的有机聚异氰酸酯;(3)藉由在铸模中使如此所得的该混合物反应以形成该混合物。
-
公开(公告)号:CN1927543A
公开(公告)日:2007-03-14
申请号:CN200610128045.2
申请日:2006-09-04
Applicant: 信浓电气制炼株式会社
IPC: B24B53/013 , B24B53/02
CPC classification number: B24B53/017 , B24B37/08 , B24B53/013 , B24D3/32
Abstract: 一种平台表面调整用磨石,系使用于研磨装置之以对研磨平台实施表面调整为目的之平台表面调整用磨石,上述研磨装置系研磨平台上配设着具有研磨加工件保持用孔部之研磨加工件用托架,将研磨加工件保持于前述托架之孔部,使研磨平台及托架分别进行旋转,同时,对前述研磨平台供应游离研磨粒来研磨上述研磨加工件,其特征为,由洛氏硬度(HRS)为-30~-100之合成树脂制弹性磨石所构成。据本发明,可有效率地实施硅晶圆及合成石英玻璃等研磨加工件之研磨,不但可实现研磨时间之缩短化,尚可降低研磨成本。此外,研磨加工件表面之粗度误差较小,可得品质安定之研磨品。
-
-