显影辊、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备

    公开(公告)号:CN101673076B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200910172157.1

    申请日:2009-09-10

    CPC classification number: G03G15/0818

    Abstract: 本发明提供显影辊、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。显影辊具有芯轴、弹性层和作为表面层的覆盖层。所述覆盖层包括含化学键合至硅原子的碳原子的氧化硅膜。在所述氧化硅膜中,通过使用高频辉光放电光发射表面分析方法检测,硅、氧、碳和氢的元素总数相对于全部检测元素数的比例为90%以上。所述氧化硅膜具有化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的丰度比(O/Si)为0.65以上至1.95以下,和化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的丰度比(C/Si)为0.05以上至1.65以下,以及具有沿覆盖层厚度方向的(C/Si)的最大值和最小值的比例为1.50至33.00。

    显影辊、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备

    公开(公告)号:CN101673076A

    公开(公告)日:2010-03-17

    申请号:CN200910172157.1

    申请日:2009-09-10

    CPC classification number: G03G15/0818

    Abstract: 本发明提供显影辊、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。显影辊具有芯轴、弹性层和作为表面层的覆盖层。所述覆盖层包括含化学键合至硅原子的碳原子的氧化硅膜。在所述氧化硅膜中,通过使用高频辉光放电光发射表面分析方法检测,硅、氧、碳和氢的元素总数相对于全部检测元素数的比例为90%以上。所述氧化硅膜具有化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的丰度比(O/Si)为0.65以上至1.95以下,和化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的丰度比(C/Si)为0.05以上至1.65以下,以及具有沿覆盖层厚度方向的(C/Si)的最大值和最小值的比例为1.50至33.00。

    显影辊、生产显影辊的方法、处理盒和图像形成设备

    公开(公告)号:CN101669073A

    公开(公告)日:2010-03-10

    申请号:CN200880012564.X

    申请日:2008-04-15

    CPC classification number: G03G15/0818 G03G2215/0861 G03G2215/0863

    Abstract: 本发明提供一种显影辊,其包括金属芯轴、覆盖该金属芯轴且包含硅橡胶和用作导电剂的炭黑两者的导电性弹性层,以及表面层,所述显影辊抑制重影图像的发生,即,所述显影辊包括导电性轴芯体、围绕该轴芯体形成的具有0.5mm至6.0mm厚度的导电性弹性层和表面层,其中所述弹性层包含炭黑和用作炭黑用粘结剂的硅橡胶两者,炭黑含量基于弹性层的质量为7至17质量%,在所述弹性层中包含的炭黑为如下炭黑:在粒径数量分布中显示至少两个峰,该粒径数量分布的最小直径峰中心落入10nm至40nm的范围内,其中所述弹性层具有1.01g/cm 3 至1.07g/cm 3 的密度,和,当X表示弹性层表面周围碳与硅(C/Si)比,Y表示距弹性层表面100μm深度处C/Si比,和Z表示距弹性层表面200μm深度处C/Si比时,X、Y和Z满足特定关系。

    显影辊、生产显影辊的方法、处理盒和图像形成设备

    公开(公告)号:CN101669073B

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN200880012564.X

    申请日:2008-04-15

    CPC classification number: G03G15/0818 G03G2215/0861 G03G2215/0863

    Abstract: 本发明提供一种显影辊,其包括金属芯轴、覆盖该金属芯轴且包含硅橡胶和用作导电剂的炭黑两者的导电性弹性层,以及表面层,所述显影辊抑制重影图像的发生,即,所述显影辊包括导电性轴芯体、围绕该轴芯体形成的具有0.5mm至6.0mm厚度的导电性弹性层和表面层,其中所述弹性层包含炭黑和用作炭黑用粘结剂的硅橡胶两者,炭黑含量基于弹性层的质量为7至17质量%,在所述弹性层中包含的炭黑为如下炭黑:在粒径数量分布中显示至少两个峰,该粒径数量分布的最小直径峰中心落入10nm至40nm的范围内,其中所述弹性层具有1.01g/cm3至1.07g/cm3的密度,和,当X表示弹性层表面周围碳与硅(C/Si)比,Y表示距弹性层表面100μm深度处C/Si比,和Z表示距弹性层表面200μm深度处C/Si比时,X、Y和Z满足特定关系。

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