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公开(公告)号:CN101632047A
公开(公告)日:2010-01-20
申请号:CN200880007884.6
申请日:2008-04-15
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/08
CPC classification number: G03G15/0818 , G03G2215/0861
Abstract: 一种具有表面层的显影辊,其有效地抑制低分子量物质渗出弹性层并具有优良的调色剂脱模性,即使经过重复图像形成,也具有充分的屈挠性并且不趋于破裂。所述显影辊为用于承载和输送调色剂以用调色剂显影在感光鼓上的静电潜像的辊。其以此顺序包括芯轴、弹性层和表面层。所述表面层包括含化学键合至硅原子的碳原子的氧化硅膜。在所述氧化硅膜中,化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的比(O/Si)为0.65-1.95,并且化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的比(C/Si)为0.05-1.65。
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公开(公告)号:CN101673076B
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN200910172157.1
申请日:2009-09-10
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/0818
Abstract: 本发明提供显影辊、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。显影辊具有芯轴、弹性层和作为表面层的覆盖层。所述覆盖层包括含化学键合至硅原子的碳原子的氧化硅膜。在所述氧化硅膜中,通过使用高频辉光放电光发射表面分析方法检测,硅、氧、碳和氢的元素总数相对于全部检测元素数的比例为90%以上。所述氧化硅膜具有化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的丰度比(O/Si)为0.65以上至1.95以下,和化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的丰度比(C/Si)为0.05以上至1.65以下,以及具有沿覆盖层厚度方向的(C/Si)的最大值和最小值的比例为1.50至33.00。
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公开(公告)号:CN101661251B
公开(公告)日:2011-11-30
申请号:CN200910166546.3
申请日:2009-08-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/08
CPC classification number: G03G15/0818
Abstract: 本发明涉及显影辊以及包括该显影辊的电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。本发明涉及具有能够有效抑制低分子量组分从弹性层渗出的表面层的显影辊,其能够有效赋予负带电性调色剂以高电荷,并且调色剂脱模性优良。所述显影辊具有芯轴,至少一层设置于所述芯轴上的弹性层,和设置于所述弹性层上的表面层,所述显影辊承载和输送调色剂,并用所述调色剂将在相对的感光构件上的静电潜像显影,以及所述表面层包括含Si、N、C和H的硅化合物膜,所述表面层具有特定的存在元素Si、N、C和H的总丰度和特定丰度比N/Si、C/Si和H/Si。
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公开(公告)号:CN101632047B
公开(公告)日:2011-10-05
申请号:CN200880007884.6
申请日:2008-04-15
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/08
CPC classification number: G03G15/0818 , G03G2215/0861
Abstract: 一种具有表面层的显影辊,其有效地抑制低分子量物质渗出弹性层并具有优良的调色剂脱模性,即使经过重复图像形成,也具有充分的屈挠性并且不趋于破裂。所述显影辊为用于承载和输送调色剂以用调色剂显影在感光鼓上的静电潜像的辊。其以此顺序包括芯轴、弹性层和表面层。所述表面层包括含化学键合至硅原子的碳原子的氧化硅膜。在所述氧化硅膜中,化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的比(O/Si)为0.65-1.95,并且化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的比(C/Si)为0.05-1.65。
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公开(公告)号:CN101673076A
公开(公告)日:2010-03-17
申请号:CN200910172157.1
申请日:2009-09-10
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/0818
Abstract: 本发明提供显影辊、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。显影辊具有芯轴、弹性层和作为表面层的覆盖层。所述覆盖层包括含化学键合至硅原子的碳原子的氧化硅膜。在所述氧化硅膜中,通过使用高频辉光放电光发射表面分析方法检测,硅、氧、碳和氢的元素总数相对于全部检测元素数的比例为90%以上。所述氧化硅膜具有化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的丰度比(O/Si)为0.65以上至1.95以下,和化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的丰度比(C/Si)为0.05以上至1.65以下,以及具有沿覆盖层厚度方向的(C/Si)的最大值和最小值的比例为1.50至33.00。
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公开(公告)号:CN101669074A
公开(公告)日:2010-03-10
申请号:CN200880013492.0
申请日:2008-04-23
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/0818 , C23C16/401 , G03G15/0808 , G03G2215/0863 , G03G2215/0869 , H01J2237/3321
Abstract: 提供一种用于制造具有高尺寸精度的电子照相辊构件的方法。该方法包括在所述辊基体构件弹性层外周面上通过等离子体CVD形成涂膜的步骤,所述辊基体构件由导电性芯轴和在所述导电性芯轴外周面上形成的弹性层构成,所述弹性层具有0.5mm至5.0mm的厚度和1MPa至100MPa的拉伸模量。所述方法的特征在于,所述步骤包括以下步骤:(1)将辊基体构件以从弹性层表面到各平板电极的距离为20mm至100mm的方式配置在平行设置于腔室中的第一和第二平板电极之间;(2)将原料气体以所述腔室内压力为13.3Pa至666.6Pa的方式导入;和(3)向所述第一平板电极供给0.3至2.0W/cm 2 输出的电力,同时在已经导入原料气体的腔室内在待被涂布表面的周速为6至170mm/s下旋转所述辊基体构件,由此在腔室内产生等离子体,从而在弹性层表面上形成涂膜。
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公开(公告)号:CN108472876A
公开(公告)日:2018-08-31
申请号:CN201680075034.4
申请日:2016-12-16
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B29C64/386 , B33Y50/00
Abstract: 一种模制系统包括切片数据产生单元和层压单元,切片数据产生单元被配置为从三维模型的三维形状数据产生切片数据,层压单元被配置为基于切片数据来层压模制材料的层。切片数据产生单元对切片数据中包括的第i层(i是正整数)数据和第i+1层数据进行分析,并且如果其中不同于第一模制材料的第二模制材料的层将被层压在第一模制材料的层上并且其中难以对层进行层压的区域被提取,则将第i层和第i+1层中的至少一个层的所述区域的数据修改为其中第一模制材料和第二模制材料混合的数据。
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公开(公告)号:CN104115073B
公开(公告)日:2018-01-26
申请号:CN201380009278.9
申请日:2013-02-15
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/0818 , C08G18/10 , C08G18/42 , C08G18/4825 , C08G18/4854 , C08G18/48
Abstract: 提供一种能够在各种环境下发挥稳定性能的显影构件。所述显影构件包括芯轴、形成在所述芯轴周围上的弹性层和覆盖所述弹性层的周面的表面层。所述表面层含有聚氨酯和分散于所述聚氨酯中的氧化锌颗粒,且所述聚氨酯具有在两个相邻的氨基甲酸酯键之间的选自根据以下项(A)和以下项(B)的结构的一种或两种结构:(A)由以下结构式(1)表示的结构、以及选自由以下结构式(2)表示的结构和由以下结构式(3)表示的结构的一种或两种结构;和(B)由以下结构式(4)表示的结构结构式(1);结构式(2);结构式(3);结构式(4)。
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公开(公告)号:CN104115073A
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:CN201380009278.9
申请日:2013-02-15
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/0818 , C08G18/10 , C08G18/42 , C08G18/4825 , C08G18/4854 , C08G18/48
Abstract: 提供一种能够在各种环境下发挥稳定性能的显影构件。所述显影构件包括芯轴、形成在所述芯轴周围上的弹性层和覆盖所述弹性层的周面的表面层。所述表面层含有聚氨酯和分散于所述聚氨酯中的氧化锌颗粒,且所述聚氨酯具有在两个相邻的氨基甲酸酯键之间的选自根据以下项(A)和以下项(B)的结构的一种或两种结构:(A)由以下结构式(1)表示的结构、以及选自由以下结构式(2)表示的结构和由以下结构式(3)表示的结构的一种或两种结构;和(B)由以下结构式(4)表示的结构,。
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公开(公告)号:CN102576203B
公开(公告)日:2014-05-07
申请号:CN201080040959.8
申请日:2010-09-14
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/08
CPC classification number: G03G15/0818
Abstract: 提供一种显影辊,其可以在低温低湿环境至高温高湿环境的宽范围环境中形成稳定的图像。所述显影辊具有由氧化硅膜构成的表面层,所述氧化硅膜至少包含化学键合至硅原子的碳原子、化学键合至硅原子的氧原子以及化学键合至硅原子和/或碳原子的氟原子。在所述氧化硅膜中,氟原子与硅原子的比例(F/Si)、化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的比例(O/Si)、和化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的比例(C/Si)在特定范围内。
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