图像显示装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106371203A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201610567012.1

    申请日:2016-07-19

    Inventor: 近藤亮史

    Abstract: 本发明涉及图像显示装置。图像显示装置包括使通过入射表面(105)从原始图像入射的光束在反射表面之中的一部分(104、103)处反射、使反射的光束形成中间图像并然后使光束在反射之中的另一部分(101、102)处反射并且从出射表面(101)向着沿第一方向定位的出射光瞳(100)出射的光学系统(107)。光学元件包含第一光学部分(401)、关于第一光学部分沿与第一方向正交的第二方向设置的第二光学部分(402)和与设置在装置中的保持部分连接的连接部分(201、202)。连接部分在第一光学部分的侧面上形成,以包含于第二光学部分的最大宽度(W2)内。

    图像显示装置
    2.
    发明公开
    图像显示装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN116136622A

    公开(公告)日:2023-05-19

    申请号:CN202211427773.9

    申请日:2022-11-15

    Abstract: 公开了图像显示装置。一种图像显示装置包括:图像显示元件;以及目镜光学系统,被配置为将光从图像显示元件引导到出射光瞳。目镜光学系统包括至少一个校正元件,该至少一个校正元件在中心区域和与中心区域不同的周边区域之间具有不同的特性。当第一光是从图像显示元件的中心部分发射的光,并且第二光是从图像显示元件的最外面的周边部分发射的光时,该至少一个校正元件的特性被设置为使得经过周边区域之后的第二光相对于经过中心区域之后的第一光的颜色漂移小于经过周边区域之前的第二光相对于经过中心区域之前的第一光的颜色漂移。

    制备薄膜的方法和制造电子发射器件的方法

    公开(公告)号:CN1983495A

    公开(公告)日:2007-06-20

    申请号:CN200610164138.0

    申请日:2006-12-06

    Inventor: 近藤亮史

    CPC classification number: H01J9/027

    Abstract: 本申请涉及制备薄膜的方法和制造电子发射器件的方法。制备薄膜的方法包括下述步骤:在基板上施加包含有用于形成薄膜的成分的液体;使所述液体干燥以形成薄膜的前体;之后加热所述前体以形成薄膜,其中加热步骤是在水或有机化合物的蒸汽被吸收进薄膜的前体之后进行的。

    图像显示装置和图像捕获装置

    公开(公告)号:CN106371204A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201610568994.6

    申请日:2016-07-19

    Inventor: 近藤亮史

    Abstract: 本发明涉及图像显示装置和图像捕获装置。该图像显示装置包括光学系统(107),该光学系统(107)导致通过透过第五表面(105)从原始图像入射的光束在第四表面(104)、第三表面并然后导致光束透过第一表面并且向着出射光瞳(101)出射,导致光束形成中间图像并且导致光学路径彼此相交。光学系统满足0.62≤L12/f≤5.00和1.80≤L45/L12≤5.00。当表面上的中心视角主光线(C)的击点之间的距离被称为击点距离时,L45代表第四与第五表面(104、105)之间的击点距离,L12代表第一与第二表面(101、102)之间的击点距离,f代表光学系统的焦距。(103)、第一表面(101)和第二表面(102)处反射

    曝光方法和器件制造方法

    公开(公告)号:CN101819385B

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN201010118900.8

    申请日:2010-02-23

    Inventor: 近藤亮史

    CPC classification number: G03F7/70125

    Abstract: 本发明涉及曝光方法和器件制造方法。所述曝光方法通过照明光照明具有以矩阵方式布置的孔径和格子状遮光部分的掩模,经由投影光学系统在待投影对象上投影所述掩模,并由此在与所述遮光部分的格子的交点共轭的位置处形成暗部图案图像,在所述曝光方法中,照明的可用光源形状满足特定的条件。因此,能够将二维周期性图案曝光到与一维周期性图案相同的理论极限间距,并且,还能够充分地确保焦点深度。

    制备薄膜的方法和制造电子发射器件的方法

    公开(公告)号:CN1983495B

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN200610164138.0

    申请日:2006-12-06

    Inventor: 近藤亮史

    CPC classification number: H01J9/027

    Abstract: 本申请涉及制备薄膜的方法和制造电子发射器件的方法。制备薄膜的方法包括下述步骤:在基板上施加包含有用于形成薄膜的成分的液体;使所述液体干燥以形成薄膜的前体;之后加热所述前体以形成薄膜,其中加热步骤是在水或有机化合物的蒸汽被吸收进薄膜的前体之后进行的。

    曝光方法和器件制造方法

    公开(公告)号:CN101819385A

    公开(公告)日:2010-09-01

    申请号:CN201010118900.8

    申请日:2010-02-23

    Inventor: 近藤亮史

    CPC classification number: G03F7/70125

    Abstract: 本发明涉及曝光方法和器件制造方法。所述曝光方法通过照明光照明具有以矩阵方式布置的孔径和格子状遮光部分的掩模,经由投影光学系统在待投影对象上投影所述掩模,并由此在与所述遮光部分的格子的交点共轭的位置处形成暗部图案图像,在所述曝光方法中,照明的可用光源形状满足特定的条件。因此,能够将二维周期性图案曝光到与一维周期性图案相同的理论极限间距,并且,还能够充分地确保焦点深度。

    具有功能薄膜的电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN100550255C

    公开(公告)日:2009-10-14

    申请号:CN200510081830.2

    申请日:2005-06-30

    Inventor: 近藤亮史

    CPC classification number: H01J9/027 Y10T29/53135

    Abstract: 本发明公开了具有功能薄膜的电子器件的制造方法。本发明的一个目的是获得具有薄膜的电子器件的薄膜的均匀形状。本发明包含以下步骤:通过使用具有排出包含功能薄膜材料的溶剂液滴的多个喷嘴的喷墨头,从多个喷嘴中的至少一部分为基板提供液滴,形成线状液滴图案;和干燥已经提供在基板上的液滴,通过位于与来自喷墨头的线状液滴图案正交的方向上并具有比该线状液滴图案宽的排气孔的吸气排气装置执行该干燥步骤。

    具有功能薄膜的电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN1725422A

    公开(公告)日:2006-01-25

    申请号:CN200510081830.2

    申请日:2005-06-30

    Inventor: 近藤亮史

    CPC classification number: H01J9/027 Y10T29/53135

    Abstract: 本发明的一个目的是获得具有薄膜的电子器件的薄膜的均匀形状。本发明包含以下步骤:通过使用具有排出包含功能薄膜材料的溶剂液滴的多个喷嘴的喷墨头,从多个喷嘴中的至少一部分为基板提供液滴,形成近似线状液滴图案;和干燥已经提供在基板上的液滴,通过位于与来自喷墨头的近似线状液滴图案正交的方向上并具有比该近似线状液滴图案宽的排气孔的吸气排气装置执行该干燥步骤。

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