公开(公告)号：CN111694225B

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202010179074.1

申请日：2020-03-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 三上晃司 ,  繁延笃

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：CN115933335A

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202211165300.6

申请日：2022-09-23

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 繁延笃 ,  木津风真

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供获得基板上多个区域的阵列的方法、曝光方法、曝光装置、制造物品的方法、非暂时性计算机可读存储介质以及信息处理装置。一种方法，其包括：使用目标函数来计算包括在回归模型中的多个系数中的各个系数的值，所述目标函数包括用于估计基板上多个区域的阵列的回归模型和用于限制回归模型的系数值的正则化项，所述目标函数不超过基准值；基于计算的值，从多个系数中提取具有不小于阈值的值的系数；以及使用仅包括所提取的系数的回归模型，获得基板上多个区域的阵列。

公开(公告)号：CN114967377A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202210156733.9

申请日：2022-02-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 繁延笃

IPC: G03F9/00 ,  G06F17/16 ,  G06F17/18

Abstract: 本发明提供一种排列获得方法、曝光装置、物品制造方法和信息处理装置。本发明提供一种获得基板上的多个区域的排列的方法，所述方法包括：使用表示用于估计所述排列的回归模型的参数的概率分布的先验分布，获得表示参数的概率分布的第一后验分布；使用第一后验分布作为表示参数的概率分布的先验分布，获得表示参数的概率分布的第二后验分布；以及通过基于第二后验分布决定参数来更新回归模型，并使用更新的回归模型，依据第二位置测量数据，获得基板上的多个区域的排列。

公开(公告)号：CN111948909A

公开(公告)日：2020-11-17

申请号：CN202010410604.9

申请日：2020-05-15

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 繁延笃 ,  吉冈勇德 ,  岛崎将俊

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光装置，该曝光装置执行在交换基板的同时曝光多个基板中的各个基板的作业处理。该装置包括被配置为保持基板的基板保持器以及被配置为控制作业处理的控制器。控制器基于作业处理的经过时间与基板变形量之间的关系来校正由于基板的变形而生成的重叠误差，并曝光基板。在该关系中，在基板交换时输送到基板保持器的基板被赋予初始变形量，该初始变形量与基板保持器在基板交换时的残留热量对应。

公开(公告)号：CN111694225A

公开(公告)日：2020-09-22

申请号：CN202010179074.1

申请日：2020-03-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 三上晃司 ,  繁延笃

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光装置，该曝光装置经由投影光学系统将原件的图案投影到基板上并对基板进行曝光。该装置包括被布置在原件和基板之间的曝光光的光路上的像差校正构件，以及驱动像差校正构件的驱动器。像差校正构件包括第一光学元件和第二光学元件，第一光学元件包括相对于曝光光的光轴具有三重旋转对称非球面形状的第一表面，第二光学元件沿着光轴与第一光学元件间隔开并且包括面对第一表面并且具有互补地校正由第一光学元件生成的像差的非球面形状的第二表面。驱动器执行第一光学元件和第二光学元件中的至少一个的绕光轴的旋转和沿着光轴的驱动中的至少一个。