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公开(公告)号：CN106918986B
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201611193007.5
申请日：2016-12-21
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种压印装置的调整方法、压印方法和物品制造方法。一种用于调整压印装置的调整方法包括：准备步骤，准备用于对测试模具的接触区域与供给在基板上的压印材料接触的状态进行评估的样品；评估步骤，对样品进行评估；以及调整步骤，基于在评估步骤中获得的评估结果来调整压印装置。接触区域包括不包括图案的平坦区域，评估步骤中的评估包括第一评估，该第一评估是对平坦区域中的压印材料的状态的评估，并且，在调整步骤中基于第一评估的结果来调整压印装置。
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公开(公告)号：CN106502047A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201610751494.6
申请日：2016-08-29
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种压印装置、物品的制造方法及供给装置。所述压印装置包括：腔室，其被构造为限定包括处理单元的第一空间，所述处理单元包括被构造为将压印材料排出到基板上的排出单元，并且所述处理单元被构造为通过使用模具进行使所述基板上的压印材料形成图案的压印处理；以及容器，其被构造为限定包括箱的第二空间，所述箱被构造为储存要供给到所述排出单元的压印材料，其中，所述箱具有对所述第二空间开放的第一开口，并且所述容器具有供给口，所述供给口被构造为经由所述第一开口将比供给到所述第一空间的气体更洁净的气体供给到所述第二空间。
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公开(公告)号：CN106502047B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201610751494.6
申请日：2016-08-29
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种压印装置、物品的制造方法及供给装置。所述压印装置包括：腔室，其被构造为限定包括处理单元的第一空间，所述处理单元包括被构造为将压印材料排出到基板上的排出单元，并且所述处理单元被构造为通过使用模具进行使所述基板上的压印材料形成图案的压印处理；以及容器，其被构造为限定包括箱的第二空间，所述箱被构造为储存要供给到所述排出单元的压印材料，其中，所述箱具有对所述第二空间开放的第一开口，并且所述容器具有供给口，所述供给口被构造为经由所述第一开口将比供给到所述第一空间的气体更洁净的气体供给到所述第二空间。
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公开(公告)号：CN106918986A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201611193007.5
申请日：2016-12-21
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种压印装置的调整方法、压印方法和物品制造方法。一种用于调整压印装置的调整方法包括：准备步骤，准备用于对测试模具的接触区域与供给在基板上的压印材料接触的状态进行评估的样品；评估步骤，对样品进行评估；以及调整步骤，基于在评估步骤中获得的评估结果来调整压印装置。接触区域包括不包括图案的平坦区域，评估步骤中的评估包括第一评估，该第一评估是对平坦区域中的压印材料的状态的评估，并且，在调整步骤中基于第一评估的结果来调整压印装置。
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