公开(公告)号：CN112764319B

公开(公告)日：2024-12-03

申请号：CN202011134936.5

申请日：2020-10-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间将人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供有利于高精度地测量载置台的位置的定位装置、曝光装置以及物品的制造方法。进行板的定位的定位装置包括：载置台，能够保持所述板并在第1方向上移动；以及测量部，在所述第1方向上射出光，并基于由设置于所述载置台的上表面之上的反射构件反射的光，测量所述载置台在所述第1方向上的位置，所述载置台在所述第1方向上的所述板与所述反射构件之间具有壁部，该壁部用于减少因所述载置台向所述第1方向的移动而所述板的周围的气体侵入到所述测量部的光路的情形，所述壁部构成为其上端比所述板的上表面高，且与所述板以及所述反射构件分离地配置。

公开(公告)号：CN114200779A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202111071545.8

申请日：2021-09-14

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间将人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法。提供有利于以简易构成来降低空间的温度分布的技术。气体供给装置具备构成气体的吹出口的框体和在与框体之间设有间隙并覆盖框体的罩，罩具有使从吹出口吹出的气体经过的开口部，在从正面观看吹出口时的平面观看时，开口部比吹出口小且位于收敛在吹出口的区域内的位置，罩具有在平面观看时与吹出口的一部分以及框体的第1面相向并形成开口部的第1部分和从第1部分延伸并与框体的不同于第1面的第2面相向的第2部分，第1部分将从吹出口吹出的气体的一部分向间隙引导，间隙构成由第1部分引导的气体的流路。

公开(公告)号：CN113867103A

公开(公告)日：2021-12-31

申请号：CN202110730772.0

申请日：2021-06-30

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间将人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了曝光装置和制造物品的方法。本发明提供了对基板进行曝光的曝光装置，包括：光学系统，所述光学系统被配置为在第一方向上发出用于对基板进行曝光的光；第一供给器，所述第一供给器被配置为将气体供给到布置有所述光学系统的腔室中；以及第二供给器，所述第二供给器被配置为向来自所述光学系统的光通过的光路空间供给气体，其中所述第二供给器包括气体吹送器和引导构件，所述气体吹送器包括吹送口，气体在第二方向上从所述吹送口吹出，所述引导构件被配置为将从所述吹送口吹出的气体引导到所述光路空间，并且所述引导构件包括板构件，所述板构件在所述吹送口的第一方向侧延伸以便沿着所述第二方向布置。

公开(公告)号：CN112764319A

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN202011134936.5

申请日：2020-10-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间将人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供有利于高精度地测量载置台的位置的定位装置、曝光装置以及物品的制造方法。进行板的定位的定位装置包括：载置台，能够保持所述板并在第1方向上移动；以及测量部，在所述第1方向上射出光，并基于由设置于所述载置台的上表面之上的反射构件反射的光，测量所述载置台在所述第1方向上的位置，所述载置台在所述第1方向上的所述板与所述反射构件之间具有壁部，该壁部用于减少因所述载置台向所述第1方向的移动而所述板的周围的气体侵入到所述测量部的光路的情形，所述壁部构成为其上端比所述板的上表面高，且与所述板以及所述反射构件分离地配置。

公开(公告)号：CN118732410A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410338405.X

申请日：2024-03-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 箕田贤 ,  本间将人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及测量装置、曝光装置、物品的制造方法以及测量方法。在投影物体的像的光学系统的像面中的第1位置和第2位置分别测量从光学系统入射到光学系统的像面的光的角度分布，使用测量出的角度分布，基于入射到第1位置的光和入射到第2位置的光在光学系统的光学元件中入射的共同区域中的光强度分布，求出与光学元件的透射率相关的信息。

公开(公告)号：CN110888304B

公开(公告)日：2023-09-26

申请号：CN201910836678.6

申请日：2019-09-05

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间将人 ,  河原泉

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光设备，其在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。本发明还涉及一种制造制品的方法。

公开(公告)号：CN114114846A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202110971979.7

申请日：2021-08-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间将人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及曝光装置和用于制造物品的方法。根据本发明的用于通过使用来自光源的曝光光对基板进行曝光以将形成在原件上的图案转印到基板的曝光装置包括：投影光学系统，被配置为将已经经过原件的曝光光引导到基板；测量单元，被配置为通过使测量光入射在基板的基板表面上并接收被基板表面反射的测量光来测量基板在垂直于基板表面的第一方向上的位置；以及行进方向设置部件，被配置为设置第一气体的行进方向，以便从第一气体供应机构朝向投影光学系统和基板之间的第一空间供应第一气体，其中，第一空间不同于测量光经过的第二空间。

公开(公告)号：CN110888304A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201910836678.6

申请日：2019-09-05

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间将人 ,  河原泉

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光设备，其在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。本发明还涉及一种制造制品的方法。