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公开(公告)号：CN113802091A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202110664969.9
申请日：2021-06-16
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开提供一种对准方法和蒸镀方法，该对准方法包括：检测工序，对设置于第一物体的第一标记的位置和设置于第二物体的第二标记的位置进行检测；测量工序，对所述第一标记的位置与所述第二标记的位置的相对位置进行测量；以及移动工序，使用用于使所述第一物体移动的致动器来使所述第一物体进行移动，所述移动工序包括：比较工序，将通过所述致动器移动的所述第一物体的可动范围与所述相对位置进行比较；第一移动工序，在通过所述比较工序判断为所述相对位置超出所述可动范围的情况下，使所述第二物体与所述第一物体一起移动；以及第二移动工序，使所述第一物体以与所述第二物体分离的方式进行移动。
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公开(公告)号：CN113802091B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202110664969.9
申请日：2021-06-16
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开提供一种对准方法和蒸镀方法，该对准方法包括：检测工序，对设置于第一物体的第一标记的位置和设置于第二物体的第二标记的位置进行检测；测量工序，对所述第一标记的位置与所述第二标记的位置的相对位置进行测量；以及移动工序，使用用于使所述第一物体移动的致动器来使所述第一物体进行移动，所述移动工序包括：比较工序，将通过所述致动器移动的所述第一物体的可动范围与所述相对位置进行比较；第一移动工序，在通过所述比较工序判断为所述相对位置超出所述可动范围的情况下，使所述第二物体与所述第一物体一起移动；以及第二移动工序，使所述第一物体以与所述第二物体分离的方式进行移动。
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公开(公告)号：CN112011786A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN202010472906.9
申请日：2020-05-29
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/40
Abstract: 本发明涉及沉积设备和沉积方法。沉积设备包括：基板保持器，用于保持基板；输送机构，用于输送呈水平姿态的基板以将基板插入基板保持器中以及从基板保持器移除基板；旋转机构，用于改变基板的姿态；室，用于容纳旋转后的基板保持器以便将基板设置成竖直姿态并且实施沉积处理；和控制单元，配置成执行第一控制以使得在沉积处理之前将基板插入基板保持器中时使输送机构在第一位置处让基板保持器将基板保持；以及执行第二控制，以使得在沉积处理之后从基板保持器移除基板时使输送机构在比第一位置更靠后的第二位置处从基板保持器接收基板。
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公开(公告)号：CN111850463B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202010330800.5
申请日：2020-04-24
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法。所述基板处理设备包括：成膜室，在所述成膜室中，在基板上形成膜；以及可动构件，其被配置为在所述成膜室的内部空间中支撑掩模、或者所述掩模和所述基板这两者，并且能够移动。在所述基板上形成所述膜之前，在由基板输送机构输送至所述成膜室的内部空间的所述基板与由所述可动构件支撑的所述掩模分离的状态下，所述可动构件移动以减小所述基板和所述掩模之间的对准误差，然后支撑所述基板。在由所述可动构件支撑所述基板之后并且在通过所述基板输送机构从所述成膜室取出所述基板之前，所述可动构件移动到预定位置。
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公开(公告)号：CN111850463A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010330800.5
申请日：2020-04-24
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法。所述基板处理设备包括：成膜室，在所述成膜室中，在基板上形成膜；以及可动构件，其被配置为在所述成膜室的内部空间中支撑掩模、或者所述掩模和所述基板这两者，并且能够移动。在所述基板上形成所述膜之前，在由基板输送机构输送至所述成膜室的内部空间的所述基板与由所述可动构件支撑的所述掩模分离的状态下，所述可动构件移动以减小所述基板和所述掩模之间的对准误差，然后支撑所述基板。在由所述可动构件支撑所述基板之后并且在通过所述基板输送机构从所述成膜室取出所述基板之前，所述可动构件移动到预定位置。
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