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公开(公告)号:CN116047867A
公开(公告)日:2023-05-02
申请号:CN202211306939.1
申请日:2022-10-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。本发明提供有利于降低在基板上产生的曝光不均的曝光装置。针对基板中的同一拍摄区域进行多次扫描曝光的曝光装置具备:光源部,周期性地射出脉冲光;以及控制部,使用从所述光源部射出的脉冲光来控制所述多次扫描曝光,所述控制部以使在所述多次扫描曝光中的各次扫描曝光中在所述拍摄区域上周期性地产生的曝光不均通过所述多次扫描曝光而至少部分性地相抵的方式,根据所述曝光不均的周期,在所述多次扫描曝光中变更扫描曝光中的来自所述光源部的脉冲光的射出开始定时。