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公开(公告)号：CN105220130A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510638661.1
申请日：2015-09-29
申请人： 佛山市思博睿科技有限公司
发明人： 梁磊
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/40
摘要： 本发明公开一种可准确控制每层厚度、以及均匀度，增加膜层与基体粘合力的低压等离子化学气相沉积的方法，本方法步骤如下：a.往反应腔内放置基体工件，对反应腔进行抽真空；b.抽真空后向反应腔内注入氧气，开启微波源，微波经ECR微波电子回旋共振后，向反应腔内提供微波电离氧分子，对基体进行表面活性化处理及洁净化处理；交替电离TiCl4气体和氧气的混合气体，以及六甲基二硅氧烷气体和氧气的混合气体，在工件表面交替沉积多层TiO2和SiO2薄膜。
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公开(公告)号：CN105420683B
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201511014618.4
申请日：2015-12-31
申请人： 佛山市思博睿科技有限公司
发明人： 梁磊
摘要： 本发明提供了一种基于低压等离子化学气相沉积制备纳米多层膜的装置，包括：用于放置基体工件的真空的反应腔；向所述反应腔内持续供给氧气的氧气输送系统；向所述反应腔内交替地供给第一气体和第二气体的气体输送系统；产生微波并向所述反应腔内提供所述微波的微波发生系统；设置于所述反应腔与所述微波发生系统之间以在所述反应腔内产生等离子场从而电离所述反应腔内的各种气体以使各气体不同分子之间进行化学反应而生成纳米级膜层的微波电子回旋共振系统。本发明的装置可准确控制每层厚度、以及均匀度，增加膜层与基体粘合力。
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公开(公告)号：CN105220130B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201510638661.1
申请日：2015-09-29
申请人： 佛山市思博睿科技有限公司
发明人： 梁磊
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/40
摘要： 本发明公开一种可准确控制每层厚度、以及均匀度，增加膜层与基体粘合力的低压等离子化学气相沉积的方法，本方法步骤如下：a.往反应腔内放置基体工件，对反应腔进行抽真空；b.抽真空后向反应腔内注入氧气，开启微波源，微波经ECR微波电子回旋共振后，向反应腔内提供微波电离氧分子，对基体进行表面活性化处理及洁净化处理；交替电离TiCl4气体和氧气的混合气体，以及六甲基二硅氧烷气体和氧气的混合气体,在工件表面交替沉积多层TiO2和SiO2薄膜。
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公开(公告)号：CN106086821A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610719680.1
申请日：2016-08-24
申请人： 佛山市思博睿科技有限公司
发明人： 梁磊
IPC分类号： C23C16/513
CPC分类号： C23C16/513
摘要： 本发明公开一种膜层纯度高，可精确控制膜层厚度的等离子法沉积膜层的装置，包括有反应室、抽气设备、气体输送系统和脉冲微波发生器，抽气设备和气体输送系统与反应室连通，抽气设备设于反应室的下方，气体输送系统设于反应室上方，脉冲微波发生器向反应室供应产生的微波，在反应室下方的出气口于抽气设备的一侧设有等离子点火触头，采用本技术方案后，与现有技术相比，本低压等离子体化学气相沉积制得纳米薄膜的装置具有以下优点：1)膜层纯度高，不含多余无用的反应物(即污染物)，膜层粘附性得到提高；2)膜层厚度控制精确。
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公开(公告)号：CN105420683A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201511014618.4
申请日：2015-12-31
申请人： 佛山市思博睿科技有限公司
发明人： 梁磊
CPC分类号： C23C16/0254 , B82Y40/00 , C23C16/50
摘要： 本发明提供了一种基于低压等离子化学气相沉积制备纳米多层膜的装置，包括：用于放置基体工件的真空的反应腔；向所述反应腔内持续供给氧气的氧气输送系统；向所述反应腔内交替地供给第一气体和第二气体的气体输送系统；产生微波并向所述反应腔内提供所述微波的微波发生系统；设置于所述反应腔与所述微波发生系统之间以在所述反应腔内产生等离子场从而电离所述反应腔内的各种气体以使各气体不同分子之间进行化学反应而生成纳米级膜层的微波电子回旋共振系统。本发明的装置可准确控制每层厚度、以及均匀度，增加膜层与基体粘合力。
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公开(公告)号：CN106268518A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610719566.9
申请日：2016-08-24
申请人： 佛山市思博睿科技有限公司
发明人： 梁磊
摘要： 本发明公开一种无论多路气路如何切换，都可以保证流量器流出气量稳定的真空反应系统，包括有多条主气路和真空反应腔，每条主气路与真空反应腔连接，在主气路上沿供气方向依次设有流量器和主路隔膜阀，真空反应腔的出口管路上设有真空规、真空蝶阀和真空泵，在每条主气路上流量器和主路隔膜阀之间引出一条旁路，旁路接驳在真空反应腔和真空规之间的出口管道上，每条旁路都设有旁路隔膜阀，主路隔膜阀、旁路隔膜阀和真空蝶阀受PLC控制器控制开关。
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公开(公告)号：CN205275697U
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201521123882.7
申请日：2015-12-31
申请人： 佛山市思博睿科技有限公司
发明人： 梁磊
摘要： 本实用新型提供了一种基于低压等离子化学气相沉积制备纳米多层膜的装置，包括：用于放置基体工件的真空的反应腔；向所述反应腔内持续供给氧气的氧气输送系统；向所述反应腔内交替地供给第一气体和第二气体的气体输送系统；产生微波并向所述反应腔内提供所述微波的微波发生系统；设置于所述反应腔与所述微波发生系统之间以在所述反应腔内产生等离子场从而电离所述反应腔内的各种气体以使各气体不同分子之间进行化学反应而生成纳米级膜层的微波电子回旋共振系统。本实用新型的装置可准确控制每层厚度、以及均匀度，增加膜层与基体粘合力。
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