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公开(公告)号：CN113272949A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN201980086005.1
申请日：2019-12-13
Abstract: 本发明的中空封装体(103)具有基板(109)、元件(111)、隔板(113)和顶板(115)，并且设置有由基板(109)、隔板(113)和顶板(115)覆盖的一个以上的被封闭的中空部(117)，基板(109)、隔板(113)和顶板(115)被密封用树脂组合物的固化物密封。顶板(115)和隔板(113)均由有机材料构成，顶板(115)的厚度、隔板(113)的厚度、隔板的宽度和中空部(117)的最长宽度分别在规定的范围内。密封用树脂组合物含有(A)环氧树脂，其含有选自分子内具有2个环氧基的环氧树脂和分子内具有3个以上的环氧基的环氧树脂中的1种或2种以上；和(B)无机填充材料。
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公开(公告)号：CN113272949B
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN201980086005.1
申请日：2019-12-13
Abstract: 本发明的中空封装体(103)具有基板(109)、元件(111)、隔板(113)和顶板(115)，并且设置有由基板(109)、隔板(113)和顶板(115)覆盖的一个以上的被封闭的中空部(117)，基板(109)、隔板(113)和顶板(115)被密封用树脂组合物的固化物密封。顶板(115)和隔板(113)均由有机材料构成，顶板(115)的厚度、隔板(113)的厚度、隔板的宽度和中空部(117)的最长宽度分别在规定的范围内。密封用树脂组合物含有(A)环氧树脂，其含有选自分子内具有2个环氧基的环氧树脂和分子内具有3个以上的环氧基的环氧树脂中的1种或2种以上；和(B)无机填充材料。
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公开(公告)号：CN104813234B
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201380061133.3
申请日：2013-11-21
Applicant: 日本化药株式会社
Abstract: 本发明的目的是提供以下：感光环氧树脂组合物，其通过光刻法可形成高分辨率、低应力图像，所述图像具有垂直侧壁并且耐湿热；和/或利用所述感光环氧树脂组合物的抗蚀剂层压体；以及通过固化所述感光环氧树脂组合物和/或抗蚀剂层压体得到的制品。本发明是感光树脂组合物，其含有以下：环氧树脂(A)，具有特定结构的多元醇化合物(B)，阳离子聚合光引发剂(C)，含环氧基的硅烷化合物(D)，和具有特定结构的反应性环氧单体(E)。环氧树脂(A)含有式(1)表示的苯酚衍生物，通过与表卤代醇反应得到的环氧树脂(a)，和式(2)表示的环氧树脂(b)。
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公开(公告)号：CN103718108A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201280037959.1
申请日：2012-07-26
Applicant: 日本化药株式会社
Abstract: 本发明涉及一种碱显影型光敏树脂组合物，包含：多羧酸树脂(A)，其通过使在两末端具有环氧基并且环氧当量为600g/当量～1,300g/当量的双官能双酚环氧树脂(a)和具有醇羟基的一元羧酸化合物(b)的反应产物(ab)与多元酸酐(c)反应而得到；在一个分子中具有两个以上环氧基的环氧树脂(B)；以及光酸产生剂(C)，其中所述一元羧酸化合物(b)对所述环氧树脂(a)的1当量环氧基的加成率为80当量%以上；并且所述多元酸酐对所述反应产物(ab)的1当量伯羟基的加成率为80当量%以上。
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公开(公告)号：CN104756012A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201380056108.6
申请日：2013-10-25
Applicant: 日本化药株式会社
CPC classification number: G03F7/0751 , G03F7/038 , G03F7/0755
Abstract: 本发明的目的是提供：感光环氧树脂组合物和/或所述树脂组合物的抗蚀剂层压体，其使得可以利用光刻法形成具有垂直侧壁形状和高分辨率、低应力和耐湿热性的图像；以及所述树脂组合物和所述抗蚀剂层压体的固化产物。本发明是包含如下的感光树脂组合物：(A)环氧树脂；(B)具有特定结构的多元酚化合物；(C)光阳离子聚合引发剂；和(D)含环氧基的硅烷化合物。环氧树脂(A)包含：通过式(1)表示的苯酚衍生物与表卤代醇反应得到的环氧树脂(A)；和式(2)表示的环氧树脂(b)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1914561A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200580003633.7
申请日：2005-01-05
Abstract: 本发明公开了具有优异的光平版印刷性能的光刻胶组合物和具有优异的耐溶剂性，在电沉积金属过程中具有优异的对在镀覆的耐性，和具有优异的抗蚀剂剥离特性的硬化抗蚀剂膜。这些根据本发明的光刻胶组合物非常适用于制造MEMS和微电机设备的场合。根据本发明的这些光刻胶组合物包含一种或多种环氧化物取代的多羧酸树脂组分(A)，一种或多种光酸生成剂化合物(B)，和一种或多种溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN1914561B
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200580003633.7
申请日：2005-01-05
Abstract: 本发明公开了具有优异的光平版印刷性能的光刻胶组合物和具有优异的耐溶剂性，在电沉积金属过程中具有优异的对在镀覆的耐性，和具有优异的抗蚀剂剥离特性的硬化抗蚀剂膜。这些根据本发明的光刻胶组合物非常适用于制造MEMS和微电机设备的场合。根据本发明的这些光刻胶组合物包含一种或多种环氧化物取代的多羧酸树脂组分(A)，一种或多种光酸生成剂化合物(B)，和一种或多种溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101208260A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200680022865.1
申请日：2006-06-15
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 日本化药株式会社
CPC classification number: F04D29/281 , B29C64/106 , B29C64/124 , B29L2031/7496 , B81C99/008 , F04D29/023 , F05D2230/31 , F05D2300/44
Abstract: 一种制造树脂的微型机器部件的方法，该方法包括以下步骤：(a)在基片上形成一层牺牲层；(b)在所述牺牲层上顺序形成至少两层光敏树脂组合物层，并对形成的各光敏树脂组合物层进行光刻，形成限定微型机器部件的周边部分的气隙部分和构成微型机器部件的内部结构的气隙部分，因而形成多层结构；(c)在固化的光敏树脂组合物层的多层结构上沉积干膜抗蚀剂，对所述干膜抗蚀剂层进行光刻，形成固化的干膜蚀刻层，其中，形成限定遮蔽层的周边部分的气隙部分和构成遮蔽层结构的气隙；和(d)通过去除所述牺牲层将所述微型机器部件与所述基片分离，所述微型机器部件具有固化光敏树脂组合物层和固化的干膜抗蚀剂层的多层结构。
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公开(公告)号：CN117950266A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202311419653.9
申请日：2023-10-30
Applicant: 日本化药株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及一种感光性树脂组合物及其硬化物，含有阳离子硬化性树脂(A)、光阳离子聚合引发剂(B)、及淬灭剂(C)，其中，阳离子硬化性树脂(A)含有60质量％以上的软化点50℃以上的多官能环氧树脂(a‑1)和/或软化点50℃以上的多官能环氧树脂的酸改性物(a‑2)，淬灭剂(C)含有下述式(1)所示的化合物。#imgabs0#(式中，R1至R3分别独立地表示烷基或苯基)R1至R3优选可为苯基。本发明也揭示从此感光性树脂组合物形成的干膜阻剂、以及此感光性树脂组合物的硬化物。
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公开(公告)号：CN104756012B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201380056108.6
申请日：2013-10-25
Applicant: 日本化药株式会社
CPC classification number: G03F7/0751 , G03F7/038 , G03F7/0755
Abstract: 本发明的目的是提供：感光环氧树脂组合物和/或所述树脂组合物的抗蚀剂层压体，其使得可以利用光刻法形成具有垂直侧壁形状和高分辨率、低应力和耐湿热性的图像；以及所述树脂组合物和所述抗蚀剂层压体的固化产物。本发明是包含如下的感光树脂组合物：(A)环氧树脂；(B)具有特定结构的多元酚化合物；(C)光阳离子聚合引发剂；和(D)含环氧基的硅烷化合物。环氧树脂(A)包含：通过式(1)表示的苯酚衍生物与表卤代醇反应得到的环氧树脂(A)；和式(2)表示的环氧树脂(b)。
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