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公开(公告)号：CN1198181C
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN97193958.6
申请日：1997-03-06
Applicant: 住友电木株式会社
CPC classification number: C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/039 , Y10S430/106
Abstract: 本发明涉及一种辐射敏感的光刻胶组合物，包括光致酸引发剂和多环聚合物，该聚合物包括含酸不稳定侧基的重复单元。经在成像辐射源下曝光后，光致酸引发剂生成使酸不稳定侧基开裂的酸，使导致聚合物极性变化。在成像源下曝光的区域中的聚合物溶于碱水溶液中。
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