立方晶氮化硼烧结体
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117957208A

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202180102395.4

    申请日:2021-10-01

    Abstract: 一种立方晶氮化硼烧结体,其具备立方晶氮化硼颗粒和结合材料,其中,所述立方晶氮化硼烧结体的所述立方晶氮化硼颗粒的含有率为30体积%以上且80体积%以下,所述结合材料包含选自由单质、合金以及金属间化合物组成的第二组中的至少一种,所述单质是选自由周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、铁、钴以及镍组成的第一组中的一种元素的单质,所述合金以及金属间化合物是由选自所述第一组中的两种以上的元素构成的合金以及金属间化合物,或者所述结合材料包含选自由化合物以及所述化合物的固溶体组成的第四组中的至少一种,所述化合物是由选自所述第一组中的一种元素和选自由氮、碳、硼以及氧组成的第三组中的至少一种元素构成的化合物,所述立方晶氮化硼烧结体的空隙的含有率为0.001体积%以上且0.20体积%以下。

    切削工具
    2.
    发明公开
    切削工具 审中-实审

    公开(公告)号:CN117480023A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202180099330.9

    申请日:2021-06-30

    Abstract: 一种切削工具,其具备基材和配置于所述基材上的覆膜,其中,所述覆膜包含第一层,所述第一层的厚度为0.2μm以上且9μm以下,所述第一层由Ti(1‑x‑y)AlxMyN构成,所述M为选自由锆、铪、周期表第五族元素、周期表第六族元素、硅以及硼组成的群组中的一种元素,在所述第一层中,所述x以及所述y沿着所述第一层的厚度方向变化,所述x的最大值xmax为0.20以上且0.70以下,所述x的最小值xmin为0以上且0.6以下,所述xmax与所述xmin满足0.01≤xmax‑xmin≤0.7,所述y的最大值ymax为0.01以上且0.20以下,所述y的最小值ymin为0以上且0.19以下,所述ymax与所述ymin满足0.01≤ymax‑ymin≤0.2。

    立方晶氮化硼烧结体以及工具
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119212964A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202480002781.X

    申请日:2024-04-26

    Abstract: 一种立方晶氮化硼烧结体,具备立方晶氮化硼颗粒、结合相和第一相,其中,立方晶氮化硼烧结体的所述立方晶氮化硼颗粒的含有率为25体积%以上且80体积%以下,所述结合相包含一种以上的第一化合物、以及来自所述第一化合物的固溶体中的一者或两者,所述第一化合物由选自由钛、锆、铪、钒、铌、钽、铬、钼、铝以及硅组成的群组中的至少一种元素、和选自由氮、碳、硼以及氧组成的群组中的至少一种元素构成,所述第一相包含钴、钨和选自由所述结合相所包含的元素组成的群组中的至少一种第一元素,所述立方晶氮化硼烧结体的钴以及钨的合计含有率为1.0质量%以上且6.0质量%以下,所述结合相由多个结合相颗粒构成,所述多个结合相颗粒以数量基准计包含50%以上的第一结合相颗粒,所述第一结合相颗粒的表面包含50面积%以上的第一区域,所述第一区域是与所述第一相接触的区域。

    切削工具
    4.
    发明公开
    切削工具 审中-公开

    公开(公告)号:CN117580664A

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202280045932.0

    申请日:2022-06-29

    Abstract: 一种切削工具,其具备基材和配置于所述基材上的覆膜,其中,所述覆膜包含第一层和第二层,所述第一层的硬度H1为25GPa以上且40GPa以下,所述第二层的硬度H2满足0.5×H1≤H2≤0.9×H1,相对于所述覆膜的(200)面的X射线衍射强度I(200)、(111)面的X射线衍射强度I(111)、(220)面的X射线衍射强度I(220)的合计的所述I(200)的比率I(200)/(I(200)+I(111)+I(220))、相对于所述合计的所述I(111)的比率I(111)/(I(200)+I(111)+I(220))、以及相对于所述合计的所述I(220)的比率I(220)/(I(200)+I(111)+I(220))中的至少任一项为0.45以上。

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