检测样品表面的装置和方法

    公开(公告)号:CN104903710A

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201380056036.5

    申请日:2013-10-24

    Inventor: P·库鲁伊特

    Abstract: 本发明涉及一种用于检测样品的装置和方法。装置包括用于产生初级带电粒子束(33)的发生器,以及具有光轴(38)的带电粒子光学系统。光学系统包括用于将全部初级束(33)聚焦成中间平面内的光斑的第一阵列的第一透镜系统(37,310),以及用于将全部初级束(33)聚焦成样品表面(315)上的光斑的第二阵列的第二透镜系统(313,314)。装置包括位于中间平面内或者其附近的位置敏感背散射带电粒子探测器(311)。第二透镜系统包括对全部带电粒子束是公共的电磁的或者静电的透镜。优选地,第二透镜系统包括用于围绕光轴(38)旋转初级束(33)的阵列的磁透镜,用于在一个角度相对于第一阵列定位带电粒子光斑的第二阵列。

    用于检查样本的方法及带电粒子束装置

    公开(公告)号:CN114830286A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN201980101525.5

    申请日:2019-10-21

    Abstract: 描述了一种用于辐照或检查样本的带电粒子束装置。带电粒子束装置包括用于产生初级带电粒子束的带电粒子束源以及具有用于形成四个或更多个初级的多个孔隙的多孔隙透镜板。提供具有用于初级带电粒子束或四个或更多个初级子束的一个开口的两个或更多个电极(例如,每个电极具有一个开口)。带电粒子束装置进一步包括准直器,以用于使四个或更多个初级子束中的第一初级子束、第二初级子束、第三初级子束、以及第四初级子束相对于彼此偏转。带电粒子束装置进一步包括具有三个或更多个电极的物镜单元,每个电极具有用于四个或更多个初级子束的开口。带电粒子束装置进一步包括用于支撑样本的平台。

    用于使用多个带电粒子束来检查样本的装置和方法

    公开(公告)号:CN106575595B

    公开(公告)日:2018-09-25

    申请号:CN201580036950.2

    申请日:2015-04-23

    Abstract: 本发明涉及用于检查样本的装置和方法。该装置包括:用于保持样本(15)的样本支持器(150),用于生成一次带电粒子束(3)阵列的多波束带电粒子发生器,用于将该一次带电粒子束阵列定向到单独聚焦到该样本上的一次带电粒子束阵列的电磁透镜系统(13),布置成用于检测在该一次带电粒子束撞击到该样本上时或者在该一次带电粒子束穿透过该样本之后由该聚焦一次带电粒子束产生的光子的多像素光子检测器(20),以及用于与将由该单独的聚焦一次带电粒子束的阵列中的至少两个相邻聚焦一次带电粒子束产生的光子(30,31,32)传送到该多像素光子检测器的不同和/或单独像素或者不同和/或单独像素群。

    检测样品表面的装置和方法

    公开(公告)号:CN104903710B

    公开(公告)日:2017-11-07

    申请号:CN201380056036.5

    申请日:2013-10-24

    Inventor: P·库鲁伊特

    Abstract: 本发明涉及一种用于检测样品的装置和方法。装置包括用于产生初级带电粒子束(33)的发生器,以及具有光轴(38)的带电粒子光学系统。光学系统包括用于将全部初级束(33)聚焦成中间平面内的光斑的第一阵列的第一透镜系统(37,310),以及用于将全部初级束(33)聚焦成样品表面(315)上的光斑的第二阵列的第二透镜系统(313,314)。装置包括位于中间平面内或者其附近的位置敏感背散射带电粒子探测器(311)。第二透镜系统包括对全部带电粒子束是公共的电磁的或者静电的透镜。优选地,第二透镜系统包括用于围绕光轴(38)旋转初级束(33)的阵列的磁透镜,用于在一个角度相对于第一阵列定位带电粒子光斑的第二阵列。

    具有对准方式的多束带电粒子源
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114631163A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202080073321.8

    申请日:2020-10-20

    Inventor: P·库鲁伊特

    Abstract: 本发明涉及一种用于生成多个基本上准直的带电粒子子束的装置和方法。该装置包括用于生成发散带电粒子束的带电粒子源、用于将所述带电粒子束拆分为带电粒子子束的阵列的分束器、包括偏转器的阵列的偏转器阵列,该偏转器的阵列包括针对所述带电粒子子束的阵列的每个带电粒子子束的一个偏转器,其中偏转器阵列被配置为用于基本上准直发散带电粒子子束的阵列。该装置还包括光束操纵设备,其被配置为用于至少在带电粒子源和偏转器阵列之间的区域中生成电场和/或磁场。该装置包括中心轴,并且该光束操纵设备被配置为生成基本上平行于中心轴和基本上垂直于中心轴的电场和/或磁场。

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