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公开(公告)号:CN110281102A
公开(公告)日:2019-09-27
申请号:CN201910550867.7
申请日:2019-06-24
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC: B24B9/10 , B24B27/033 , B24B37/00 , B24B41/04 , B24B55/06
Abstract: 本发明公开了一种清洗机构及清洗方法,用以解决相关技术中研磨头在研磨过程中,超出研磨区域,对非研磨区域进行研磨,导致研磨头上的研磨材过度耗损的问题。清洗机构包括:研磨头、连接杆、自平衡装置、上旋转节以及下旋转节;下旋转节包括底面以及在底面边缘上凸起的第一连接部,下旋转节通过底面固定于研磨头的非研磨面上;上旋转节包括顶面以及在顶面边缘凸起的第二连接部,连接杆固定于顶面上;上旋转节以及下旋转节通过贯穿于第一连接部以及第二连接部的轴连接,在底面以及顶面之间形成第一空间;自平衡装置位于第一空间内,被轴贯穿,用于使研磨头与被研磨面平行。本发明可避免清洗机构研磨头上的研磨材过度耗损。
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公开(公告)号:CN110281102B
公开(公告)日:2020-12-25
申请号:CN201910550867.7
申请日:2019-06-24
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC: B24B9/10 , B24B27/033 , B24B37/00 , B24B41/04 , B24B55/06
Abstract: 本发明公开了一种清洗机构及清洗方法,用以解决相关技术中研磨头在研磨过程中,超出研磨区域,对非研磨区域进行研磨,导致研磨头上的研磨材过度耗损的问题。清洗机构包括:研磨头、连接杆、自平衡装置、上旋转节以及下旋转节;下旋转节包括底面以及在底面边缘上凸起的第一连接部,下旋转节通过底面固定于研磨头的非研磨面上;上旋转节包括顶面以及在顶面边缘凸起的第二连接部,连接杆固定于顶面上;上旋转节以及下旋转节通过贯穿于第一连接部以及第二连接部的轴连接,在底面以及顶面之间形成第一空间;自平衡装置位于第一空间内,被轴贯穿,用于使研磨头与被研磨面平行。本发明可避免清洗机构研磨头上的研磨材过度耗损。
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公开(公告)号:CN115796225A
公开(公告)日:2023-03-14
申请号:CN202211485884.5
申请日:2022-11-24
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC: G06K19/077 , G06K19/07 , G06K7/10 , G09F9/35 , G09F9/33
Abstract: 本申请实施例提供了一种显示面板、显示面板识别系统及其识别方法。该显示面板包括:显示基板、射频识别标签;射频识别标签位于显示基板的一侧,射频识别标签为无源射频识别标签,存储有识别信息,识别信息用于对显示基板进行标识;射频识别标签在接收到阅读器发送的电磁波信号后,发送与识别信息对应的识别信号给阅读器,识别信号覆盖的最大距离为10米。本申请实施例提供的带有射频识别标签的显示面板可以实现在较远距离内与阅读器进行信息交互,减小阅读器读取显示面板信息的难度;阅读器可同时识别一张或多张带有射频识别标签的显示面板,提高阅读器的识别效率;利用可移动阅读器可实现显示面板的主动搜寻。
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公开(公告)号:CN115741457A
公开(公告)日:2023-03-07
申请号:CN202211448860.2
申请日:2022-11-18
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC: B24B37/12 , B24B37/16 , B24B55/06 , B24B53/007 , B24B27/033
Abstract: 本申请实施例提供了一种研磨盘、清洁机构及其清洁方法。该研磨盘包括本体件和至少两个研磨组件。研磨组件凸出设置于本体件的第一面,沿第一面的径向延伸,用于贴合玻璃基板。本体件还包括凹陷设置于第一面的至少两条排污沟槽,排污沟槽沿本体件的径向延伸至本体件的边缘。沿本体件的周向,研磨组件和排污沟槽交替排列。本申请实施例在研磨盘的第一面增设排污沟槽,有效地将玻璃残渣等硬质脏污物排出,有利于提升研磨组件的排污能力,有利于避免对研磨盘的划伤和有利于降低研磨盘损坏的风险,延长研磨盘的使用寿命。
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公开(公告)号:CN114003144A
公开(公告)日:2022-02-01
申请号:CN202111267684.8
申请日:2021-10-29
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种触控结构、触控显示装置和制作方法,以改善现有技术中的触控结构在扇出区会存在色差的问题。所述触控结构,包括:多个触控电极,与所述触控电极电连接的触控引线,所述触控引线在扇出区与绑定端子电连接;至少部分所述触控引线在所述扇出区包括沿第一方向延伸的第一延伸部,以及沿第二方向延伸、连接所述第一延伸部与所述绑定端子的第二延伸部;在由所述触控电极所在区域指向所述绑定端子的方向上,各所述第一延伸部在靠近所述绑定端子一侧的延伸长度逐渐减小,各所述第一延伸部在延伸长度减小的区域形成走线缺失区,所述走线缺失区在至少部分相邻两个所述第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块。
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公开(公告)号:CN114003144B
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202111267684.8
申请日:2021-10-29
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种触控结构、触控显示装置和制作方法,以改善现有技术中的触控结构在扇出区会存在色差的问题。所述触控结构,包括:多个触控电极,与所述触控电极电连接的触控引线,所述触控引线在扇出区与绑定端子电连接;至少部分所述触控引线在所述扇出区包括沿第一方向延伸的第一延伸部,以及沿第二方向延伸、连接所述第一延伸部与所述绑定端子的第二延伸部;在由所述触控电极所在区域指向所述绑定端子的方向上,各所述第一延伸部在靠近所述绑定端子一侧的延伸长度逐渐减小,各所述第一延伸部在延伸长度减小的区域形成走线缺失区,所述走线缺失区在至少部分相邻两个所述第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块。
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公开(公告)号:CN207850321U
公开(公告)日:2018-09-11
申请号:CN201820006997.5
申请日:2018-01-03
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
Inventor: 周新星 , 晏江 , 黄光明 , 刘鑫 , 贾永红 , 王建 , 殷楷 , 郑魁明 , 杨岭 , 汪俊成 , 黄力 , 何洋 , 周伟芳 , 唐洁 , 刘丰伟 , 黄文田 , 董彦武
IPC: G01B11/30
Abstract: 本实用新型提供一种测量仪,其特征在于,包括相互平行的两支撑杆、套接于所述两支撑杆上的滑块、设于所述滑块上且与所述两支撑杆所在平面平行的码盘组件;所述码盘组件包括设在所述滑块上的主码盘及与所述主码盘相配合的游标码盘;所述两个支撑杆中的其中一个支撑杆为活动支撑杆,该活动支撑杆能够沿其轴线方向上与所述滑块发生相对滑动,所述活动支撑杆上设有的刻度标尺结构。本实用新型提供的测量仪通过设置相互平行的两支撑杆,以及设于所述滑块上且与所述两支撑杆所在平面平行的码盘组件,集水平度测量和平整度测量功能的一体设计,减少了测量工具和测量的操作步骤,提高了工作效率。
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公开(公告)号:CN203456429U
公开(公告)日:2014-02-26
申请号:CN201320400806.0
申请日:2013-07-05
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC: H01L21/68
Abstract: 本实用新型涉及定位技术领域,尤其涉及一种盖板自动定位装置。该装置包括:盖板主体和下部电极板;基板设置于下部电极板上,基板的面积小于下部电极板的面积;盖板主体为边框形,其覆盖基板的边缘区域,盖板主体下表面设有台柱,台柱接触下部电极板;台柱上设有朝向下部电极板的凸起,下部电极板上设有与凸起相对应的凹槽。本实用新型提供的盖板自动定位装置,采用在盖板的台柱上设置凸起以及在下部电极板上设置凹槽的设计,通过两者之间的配合,使得在重力作用下,实现盖板与下部电极板间不会发生相对位移,确保盖板覆盖玻璃基板边缘的有效率,进而最大程度地延长部件的使用寿命,进而节省加工成本。
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公开(公告)号:CN203270029U
公开(公告)日:2013-11-06
申请号:CN201320291410.7
申请日:2013-05-24
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC: C23C16/50 , C23C16/458
Abstract: 本实用新型属于定位技术领域,公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备及其定位装置,该定位装置的定位夹具包括固定在基板承载结构上的固定件及与该固定件通过旋转轴连接的旋转体,放置在工作台上的基板的侧边位于该旋转体的旋转区域内,且该旋转体的重心相对其旋转中心靠近定位装置真空腔的侧壁,并在真空腔的侧壁上设置用于驱动旋转体旋转的驱动件。通过利用基板承载结构与真空腔相对运动频繁的特点,有效将基板承载结构与真空腔的相对运动转化为定位装置定位基板的动力源,大大简化了定位夹具的结构,还能够实现动作的高再现性,保证定位精度,满足量产的需求。
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