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公开(公告)号:CN202886295U
公开(公告)日:2013-04-17
申请号:CN201220621291.2
申请日:2012-11-21
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号: G01N21/89
摘要: 本实用新型实施例公开了一种破损检测装置,属于显示技术领域。解决了现有的破损检测装置成本投入较高,难以实现大量安装的技术问题。该破损检测装置,包括左侧支架、右侧支架和中间支架,所述左侧支架上设置有第一传感器,所述右侧支架上设置有第二传感器,所述中间支架上设置有第三传感器和第四传感器,所述第三传感器和所述第四传感器分别位于所述第一传感器与所述第二传感器之间的连线的两侧;当所述第三传感器和所述第四传感器接收的信号正常,所述第一传感器或所述第二传感器接收的信号异常时,所述检测电路发出破损信号。本实用新型应用于检测玻璃基板。
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公开(公告)号:CN106909031A
公开(公告)日:2017-06-30
申请号:CN201710200961.0
申请日:2017-03-29
申请人: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号: G03F7/2008 , G02B7/182
摘要: 本发明提供一种曝光设备及曝光系统,属于显示基板制备技术领域,其可解决现有的接近式曝光机的曝光区域尺寸单一,设备复杂的问题。本发明的曝光设备包括:能发生形变的凹面反射镜,用于反射曝光光线,并保证所述曝光光线最终射向曝光区域;调整模组,用于改变所述凹面反射镜的曲率。
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公开(公告)号:CN106909031B
公开(公告)日:2018-04-06
申请号:CN201710200961.0
申请日:2017-03-29
申请人: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要: 本发明提供一种曝光设备及曝光系统,属于显示基板制备技术领域,其可解决现有的接近式曝光机的曝光区域尺寸单一,设备复杂的问题。本发明的曝光设备包括:能发生形变的凹面反射镜,用于反射曝光光线,并保证所述曝光光线最终射向曝光区域;调整模组,用于改变所述凹面反射镜的曲率。
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