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公开(公告)号:CN109980001A
公开(公告)日:2019-07-05
申请号:CN201811568018.6
申请日:2018-12-21
IPC: H01L29/778 , H01L29/06 , H01L29/08 , H01L29/423 , H01L21/335
Abstract: 本申请涉及半导体器件。在具有异质结型超结结构的半导体器件中,漏极部分和源极部分电连接到二维电子气层和二维空穴气层中的一个,并且栅极部分通过绝缘区域防止直接接触二维电子气层和二维空穴气层中的所述一个。
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公开(公告)号:CN109980001B
公开(公告)日:2022-03-15
申请号:CN201811568018.6
申请日:2018-12-21
IPC: H01L29/778 , H01L29/06 , H01L29/08 , H01L29/423 , H01L21/335
Abstract: 本申请涉及半导体器件。在具有异质结型超结结构的半导体器件中,漏极部分和源极部分电连接到二维电子气层和二维空穴气层中的一个,并且栅极部分通过绝缘区域防止直接接触二维电子气层和二维空穴气层中的所述一个。
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