公开(公告)号：CN111886674B

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN201980020982.1

申请日：2019-03-05

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 八尾章史 ,  武田雄太 ,  江藤纯

IPC: H01L21/302 ,  C01B7/24 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明的目的在于，提供蚀刻速度快且偏差的抑制优异的基板处理用气体、保管其的保管容器和基板处理方法。本发明的基板处理用气体含有IF5和IF7，IF5的含量相对于IF7整体以体积基准计为1ppm以上且2％以下。

公开(公告)号：CN111886674A

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201980020982.1

申请日：2019-03-05

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 八尾章史 ,  武田雄太 ,  江藤纯

IPC: H01L21/302 ,  C01B7/24 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明的目的在于，提供蚀刻速度快且偏差的抑制优异的基板处理用气体、保管其的保管容器和基板处理方法。本发明的基板处理用气体含有IF5和IF7，IF5的含量相对于IF7整体以体积基准计为1ppm以上且2％以下。