公开(公告)号：CN102338892A

公开(公告)日：2012-02-01

申请号：CN201110292062.0

申请日：2011-09-29

Applicant: 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所

Inventor： 套格套 ,  吴晓鸣 ,  李辛 ,  李号召 ,  许照东 ,  王制修 ,  刘凤玉 ,  孙红晓 ,  王一坚 ,  袁兆峰

IPC: G02B1/11 ,  B32B9/00

Abstract: 本发明涉及光学器件及其加工技术领域，具体公开了一种以ZnS为基底，在1064nm和8μm～10μm两个光波段具有大入射角高透过率的增透膜，同时还公开了一种采用该增透膜的ZnS光窗。该增透膜由六个膜层组成，第1、3、5膜层的膜料为YbF3，第2、4、6膜层的膜料为ZnS，第1膜层、第2膜层、第3膜层、第4膜层、第5膜层、第6膜层的厚度依次为73.09nm±0.8nm、67.77nm±0.7nm、528.47nm±5.3nm、67.84nm±0.7nm、275.82nm±2.8nm、243.34nm±2.5nm。本发明提供的光窗在1064nm光波段附近，在30°到70°入射角范围内，其透过率为78%～97%；在8μm～10μm光波段，在30°到70°入射角范围内，其透过率为74.5%～97%。

公开(公告)号：CN102338892B

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：CN201110292062.0

申请日：2011-09-29

Applicant: 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所

Inventor： 套格套 ,  吴晓鸣 ,  李辛 ,  李号召 ,  许照东 ,  王制修 ,  刘凤玉 ,  孙红晓 ,  王一坚 ,  袁兆峰

IPC: G02B1/11 ,  B32B9/00

Abstract: 本发明涉及光学器件及其加工技术领域，具体公开了一种以ZnS为基底，在1064nm和8μm～10μm两个光波段具有大入射角高透过率的增透膜，同时还公开了一种采用该增透膜的ZnS光窗。该增透膜由六个膜层组成，第1、3、5膜层的膜料为YbF3，第2、4、6膜层的膜料为ZnS，第1膜层、第2膜层、第3膜层、第4膜层、第5膜层、第6膜层的厚度依次为73.09nm±0.8nm、67.77nm±0.7nm、528.47nm±5.3nm、67.84nm±0.7nm、275.82nm±2.8nm、243.34nm±2.5nm。本发明提供的光窗在1064nm光波段附近，在30°到70°入射角范围内，其透过率为78%～97%；在8μm～10μm光波段，在30°到70°入射角范围内，其透过率为74.5%～97%。