一种用于光电成像器件光谱响应辐射损伤的测试方法

    公开(公告)号:CN103616385A

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN201310609114.1

    申请日:2013-11-26

    Abstract: 本发明涉及一种用于光电成像器件光谱响应辐射损伤的测试方法,该方法涉及装置是由卤素灯光源室、单色仪、投射镜头、矩形分划板、反射镜、平行光管、成像物镜、三维样品调整台和待测光电成像器件制成,本发明利用单色仪输出均匀的单色光,并经过投射物镜将放置在平行光管焦面位置的矩形分划板照亮,再经过反射镜改变光路方向后射入到平行光管,平行光管输出的准直单色光通过成像物镜将矩形分划板成像到光电成像器件的光敏面上,根据所采集的图像信息得出光电成像器件的光谱响应,再将光电成像器件受高能粒子辐照后,再进行测试一次,即可得到器件的光谱响应辐射损伤,本发明所述的方法结构紧凑,操作简单方便。

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