公开(公告)号：CN109487209A

公开(公告)日：2019-03-19

申请号：CN201811524622.9

申请日：2018-12-13

Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所

Inventor： 黄峰 ,  赵公澍 ,  李朋 ,  孟凡平

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/35 ,  C23C14/02

Abstract: 本发明公开了一种高硬度的MAX相陶瓷涂层，所述涂层的成分组成为VxAlyC1-x-y，x＝0.52～0.54，y＝0.23～0.24，其中x，y为原子比率；所述涂层为结晶态，呈V型柱状晶生长结构，涂层为六方晶体结构；所述涂层利用X射线衍射在2θ＝10～90°范围内测试，只在35.55°处出现MAX相(100)衍射峰，在63.85°处出现MAX相(110)衍射峰。该MAX相陶瓷涂层采用磁控溅射法并辅助射频叠加中频的电源施加方式，在非晶基体上非外延生长得到，得到的VxAlyC1-x-y涂层硬度高达20～25Gpa，大大提高了涂层的硬度，增强了其防护性能。

公开(公告)号：CN109628901B

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN201811524624.8

申请日：2018-12-13

Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所

Inventor： 黄峰 ,  李朋 ,  赵公澍 ,  葛芳芳

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06

Abstract: 本发明公开了一种高韧性的MAX相陶瓷涂层，其成分组成为V2AlC，所述涂层为层状结构，生长尺度上主层的厚度为50～150nm，所述主层由若干层次层组成，所述次层的厚度为10～30nm。本发明还公开了上述MAX相陶瓷涂层的制备方法，采用磁控溅射法并辅助射频叠加直流的电源施加方式，在非晶基体上非外延生长出所述MAX相陶瓷涂层，该涂层的韧性指数δH为0.4～0.8，硬度为20GPa～25Gpa，具有很好的防护性能。

公开(公告)号：CN109628901A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201811524624.8

申请日：2018-12-13

Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所

Inventor： 黄峰 ,  李朋 ,  赵公澍 ,  葛芳芳

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06

CPC classification number: C23C14/35 ,  C23C14/0635

Abstract: 本发明公开了一种高韧性的MAX相陶瓷涂层，其成分组成为V2AlC，所述涂层为层状结构，生长尺度上主层的厚度为50～150nm，所述主层由若干层次层组成，所述次层的厚度为10～30nm。本发明还公开了上述MAX相陶瓷涂层的制备方法，采用磁控溅射法并辅助射频叠加直流的电源施加方式，在非晶基体上非外延生长出所述MAX相陶瓷涂层，该涂层的韧性指数δH为0.4～0.8，硬度为20GPa～25Gpa，具有很好的防护性能。

公开(公告)号：CN109487209B

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201811524622.9

申请日：2018-12-13

Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所

Inventor： 黄峰 ,  赵公澍 ,  李朋 ,  孟凡平

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/35 ,  C23C14/02

Abstract: 本发明公开了一种高硬度的MAX相陶瓷涂层，所述涂层的成分组成为VxAlyC1‑x‑y，x＝0.52～0.54，y＝0.23～0.24，其中x，y为原子比率；所述涂层为结晶态，呈V型柱状晶生长结构，涂层为六方晶体结构；所述涂层利用X射线衍射在2θ＝10～90°范围内测试，只在35.55°处出现MAX相(100)衍射峰，在63.85°处出现MAX相(110)衍射峰。该MAX相陶瓷涂层采用磁控溅射法并辅助射频叠加中频的电源施加方式，在非晶基体上非外延生长得到，得到的VxAlyC1‑x‑y涂层硬度高达20～25Gpa，大大提高了涂层的硬度，增强了其防护性能。