-
公开(公告)号：CN1361554A
公开(公告)日：2002-07-31
申请号：CN00136136.8
申请日：2000-12-25
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种铟镓氮薄膜的快速填埋生长方法,其是在氮化镓/蓝宝石复合衬底上、或在其它形式的氮化镓基化合物复合衬底上,用快速填埋方法生长铟镓氮薄膜,其特征在于,快速填埋方法是:采用较大的有机源流量将铟埋入正在生长的氮化镓薄膜中,以阻止铟的聚集和逃逸,并形成铟组份调制的量子点;同时通过生长温度、有机源流量和环境气氛来控制铟镓氮组份比例。
-
公开(公告)号：CN1154155C
公开(公告)日：2004-06-16
申请号：CN01100454.1
申请日：2001-01-12
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种III族氮化物单/多层异一种质应变薄膜的制作方法，包括如下制备步骤：(1)用一衬底，使在该衬底上外延的III族氮化物晶体生长平面能够和(0001)晶面垂直；(2)在衬底材料上外延预定厚度的III族氮化物作为下一步外延生长模板；(3)在模板上外延生长预定结构的III族氮化物单/多层异质应变薄膜，在垂直该外延薄膜平面的方向上没有压电场。
-
公开(公告)号：CN1474464A
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：CN02128518.7
申请日：2002-08-09
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明一种制作白光发光二极管的方法，该方法包括如下制备步骤：(1)选择衬底材料，在该衬底上外延生长所需要的材料作为下一步的衬底；(2)对材料表面进行钝化；(3)在上述衬底上生长一层纳米尺寸的量子点作为诱导层；(4)然后再生长一层或多层异质量子点结构，所生长的单/多层异质量子点结构作为发光二极管的活性层；(5)在活性层上再生长一层P型材料；(6)镀一层电极。采用这种方法制作的白光二极管制作工艺简单，重复性好，发光波段和颜色可调。
-
公开(公告)号：CN1414644A
公开(公告)日：2003-04-30
申请号：CN01136843.8
申请日：2001-10-26
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: B82Y30/00
Abstract: 一种制作单/多层异质量子点结构的方法，这种结构用于制作发光器件和微电子器件的活性层，选择合适的衬底材料，在该衬底上外延所需的半导体薄膜材料作为衬底，然后对衬底材料表面进行钝化，然后在钝化后的表面上生长一层纳米尺寸的岛状诱导层，再生长单/多层量子点结构，采用这种方法生长量子点工艺简单，量子点尺寸可调度大，并且适用于多种超晶格外延生长设备；在这种单/多层异质量子点结构中，由于量子限制效应导致三维方向上的载流子局域化；采用该新结构的半导体光电器件可以通过制作内量子效率高、温度特性稳定和开启电压低或阈值电压低的发光器件和电子器件。
-
公开(公告)号：CN1365136A
公开(公告)日：2002-08-21
申请号：CN01100454.1
申请日：2001-01-12
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种III族氮化物单/多层异一种质应变薄膜的制作方法,包括如下制备步骤:(1)用一衬底,使在该衬底上外延的III族氮化物晶体生长平面能够和(0001)晶面垂直;(2)在衬底材料上外延预定厚度的III族氮化物作为下一步外延生长模板;(3)在模板上外延生长预定结构的III族氮化物单/多层异质应变薄膜,在垂直该外延薄膜平面的方向上没有压电场。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1219333C
公开(公告)日：2005-09-14
申请号：CN02128518.7
申请日：2002-08-09
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明一种制作白光发光二极管的方法，该方法包括如下制备步骤：(1)选择衬底材料，在该衬底上外延生长氮化镓基材料作为下一步的衬底；(2)对氮化镓基材料表面进行钝化；(3)在上述衬底上生长一层氮化镓基量子点作为诱导层；(4)在诱导层上再生长一层或多层异质氮化镓基量子点结构，所生长的单或多层异质氮化镓基量子点结构作为发光二极管的活性层；(5)在活性层上再生长一层P型材料；(6)在P型材料上镀一层电极。采用这种方法制作的白光二极管制作工艺简单，重复性好，发光波段和颜色可调。
-
公开(公告)号：CN1652299A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN200410004028.9
申请日：2004-02-04
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/20 , H01L21/318
Abstract: 一种在硅衬底上生长无裂纹III族氮化物薄膜的方法，其特征在于，采用了以下的方法来生长缓冲层，包括如下步骤：(A)首先在硅衬底表面形成一层薄的液态铝层，该液态铝层的主要作用是阻止无定形的氮化硅层的形成；(B)然后生长一层高温氮化铝缓冲层，该氮化铝缓冲层中铝的含量大于氮的含量。
-
公开(公告)号：CN1133217C
公开(公告)日：2003-12-31
申请号：CN00120889.6
申请日：2000-08-15
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 半导体面发光器件的制造方法，包括：在半导体面发光器件的n区(或p区)具有增强平行于p-n结平面的电子迁移率的二维电子气(二维空穴气)，以及在光输出面具有增强透光性网格状的电极。含有新结构的半导体面发光器件(如：发光二极管，面输出的激光二极管等)具有光输出效率高，整个发光面发光均匀，避免了对厚度要求极其苛刻的金属透明电极，或减少了器件的厚度，以及由此带来制作成本低廉的优点。
-
公开(公告)号：CN1316782A
公开(公告)日：2001-10-10
申请号：CN00105756.1
申请日：2000-04-05
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种氮化物半导体器件，其中包含：在绝缘衬底上生长氮化物缓冲层，在其上并与其相接触具有增强平行于PN结平面电子迁移率的又具有与负电极金属形成低阻欧姆接触功能的氮化物半导体多重异质及掺杂结构层构成的负电极n型复合接触层。其具有新结构的氮化物半导体器件，这种结构的氮化物半导体器件的串联电阻低发光效率高。
-
公开(公告)号：CN1314081C
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200410004028.9
申请日：2004-02-04
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/20 , H01L21/318
Abstract: 一种在硅衬底上生长无裂纹三族氮化物薄膜的方法，其特征在于，采用了以下的方法来生长缓冲层，包括如下步骤：(A)首先在硅衬底表面形成一层薄的液态铝层，该液态铝层的主要作用是阻止无定形的氮化硅层的形成；(B)然后生长一层氮化铝缓冲层，该氮化铝缓冲层中铝的含量大于氮的含量。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
16
records
(took 0.026 seconds)
