基于InGaAs/AlGaAs的太赫兹阵列探测器件

    公开(公告)号:CN116314428A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310325851.2

    申请日:2023-03-30

    Abstract: 本发明公开的是基于InGaAs/AlGaAs的太赫兹阵列探测器件,在GaAs衬底上依次生长GaAs缓冲层、AlxGa1‑xAs缓冲层、AlxGa1‑xAs势垒层、Si的δ掺杂底层、AlxGa1‑xAs的隔离层、InxGa1‑xAs的沟道层、AlxGa1‑xAs的隔离层、Si的δ掺杂层、AlxGa1‑xAs势垒层、未掺杂的AlAs层、未掺杂的GaAs层、掺杂Si的AlAs势垒层和掺杂Si的GaAs帽层。源极、漏极分别于GaAs缓冲层以及各个势垒层两端接触形成欧姆接触,并在沟道层之间形成的二维电子气通道。其主要特征是InGaAs/AlGaAs形成的二维电子气具有非常高的电子迁移率,并可与太赫兹波产生等离子共振,增强了太赫兹波的吸收,并提高了光电转换效率。本发明的优点是设计的阵列器件不仅可以实现较高的响应,还实现了较优秀的均匀性特征,以此为基础的线阵列芯片利于大规模集成拓展。

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