一种高增益紫外至近红外InGaAs探测器芯片

    公开(公告)号:CN107994095B

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN201711275111.3

    申请日:2017-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种高增益紫外至近红外InGaAs探测器芯片,在其磷化铟(InP)衬底之上结构依次为:InP接触层、铟镓砷(InGaAs)吸收层、氧化硅(SiO2)介质层、源极金属电极、石墨烯层、漏极金属电极以及栅极金属电极,如附图所示。本专利的优点在于:一方面石墨烯展现良好的半金属特性,与InGaAs层接触能够形成肖特基光电二极管,实现光探测;另一方面石墨烯无禁带宽度且其光学透过性极好,能够拓宽该新型InGaAs探测器光谱响应至近紫外,同时能够增加InGaAs层的光吸收;此外,石墨烯具有极高的迁移率和极快的载流子传输特性,使得该探测器对光生载流子的注入拥有极高的量子增益特性。

    一种高增益紫外至近红外InGaAs探测器芯片

    公开(公告)号:CN107994095A

    公开(公告)日:2018-05-04

    申请号:CN201711275111.3

    申请日:2017-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种高增益紫外至近红外InGaAs探测器芯片,在其磷化铟(InP)衬底之上结构依次为:InP接触层、铟镓砷(InGaAs)吸收层、氧化硅(SiO2)介质层、源极金属电极、石墨烯层、漏极金属电极以及栅极金属电极,如附图所示。本发明的优点在于:一方面石墨烯展现良好的半金属特性,与InGaAs层接触能够形成肖特基光电二极管,实现光探测;另一方面石墨烯无禁带宽度且其光学透过性极好,能够拓宽该新型InGaAs探测器光谱响应至近紫外,同时能够增加InGaAs层的光吸收;此外,石墨烯具有极高的迁移率和极快的载流子传输特性,使得该探测器对光生载流子的注入拥有极高的量子增益特性。

    高增益紫外至近红外InGaAs探测器芯片

    公开(公告)号:CN207529952U

    公开(公告)日:2018-06-22

    申请号:CN201721683340.4

    申请日:2017-12-06

    Abstract: 本专利公开了一种高增益紫外至近红外InGaAs探测器芯片,在其磷化铟(InP)衬底之上结构依次为:InP接触层、铟镓砷(InGaAs)吸收层、氧化硅(SiO2)介质层、源极金属电极、石墨烯层、漏极金属电极以及栅极金属电极,如附图所示。本专利的优点在于:一方面石墨烯展现良好的半金属特性,与InGaAs层接触能够形成肖特基光电二极管,实现光探测;另一方面石墨烯无禁带宽度且其光学透过性极好,能够拓宽该新型InGaAs探测器光谱响应至近紫外,同时能够增加InGaAs层的光吸收;此外,石墨烯具有极高的迁移率和极快的载流子传输特性,使得该探测器对光生载流子的注入拥有极高的量子增益特性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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