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公开(公告)号：CN112229861A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN202011247132.6
申请日：2020-11-10
Applicant: 中国科学技术大学
IPC: G01N23/2204 , G01R19/00 , G01R15/24
Abstract: 本发明涉及一种用于粒子加速器真空结构材料的低温二次电子测试样品架，包括：样品、样品座、样品底板、压片、绝缘垫、法拉第筒、螺钉、塞块、低温冷屏、螺栓、固定板、过渡管、陶瓷管和液氦输液管；本发明兼顾超高真空和二次电子测试的前提下(本发明用于10‑8Pa超高真空环境下，兼顾二次电子测试的条件下)，设计独特样品架结构使液氦流进样品座内部，实现样品4.7K低温，完成低温二次电子测试，同时本发明设计结构巧妙，操作简单，攻克导热、超高真空、电绝缘彼此限制。
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公开(公告)号：CN108418088B
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201810191724.7
申请日：2018-03-08
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种用于自由电子激光器的可切换反射镜的光学谐振腔，包括大理石底座、真空腔体、多个反射镜及镜托、镜台卡槽、六维精密调整平台、反射镜的镜库及其运动机构、抓镜机械手及其运动机构；真空腔体连接所述大理石底座并置于其上，多个反射镜及镜托、镜库、抓镜机械手、六维精密调整平台均处于所述真空腔体内，六维精密调整平台竖直放置并与所述真空腔体的底板连接。可实现多个反射镜在线快速切换，且每个反射镜切换到工作位置后均可实现五维独立精密调节。由于单个反射镜的曲率、耦合输出孔大小均已固定，仅能覆盖较小范围的振荡器自由电子激光输出。可应用于红外、太赫兹科学技术领域、如太赫兹成像、能源化学研究等。
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公开(公告)号：CN112229861B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202011247132.6
申请日：2020-11-10
Applicant: 中国科学技术大学
IPC: G01N23/2204 , G01R19/00 , G01R15/24
Abstract: 本发明涉及一种用于粒子加速器真空结构材料的低温二次电子测试样品架，包括：样品、样品座、样品底板、压片、绝缘垫、法拉第筒、螺钉、塞块、低温冷屏、螺栓、固定板、过渡管、陶瓷管和液氦输液管；本发明兼顾超高真空和二次电子测试的前提下(本发明用于10‑8Pa超高真空环境下，兼顾二次电子测试的条件下)，设计独特样品架结构使液氦流进样品座内部，实现样品4.7K低温，完成低温二次电子测试，同时本发明设计结构巧妙，操作简单，攻克导热、超高真空、电绝缘彼此限制。
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公开(公告)号：CN113699425B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202111014293.5
申请日：2021-08-31
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种非蒸散型四元Ti‑Zr‑V‑Cu真空吸气剂薄膜及其制备方法。非蒸散型四元Ti‑Zr‑V‑Cu真空吸气剂薄膜包括如下原子百分比组分：钛：20～35％；锆：20～35％；钒：20～35％；铜：2.0～8.0％；余量为杂质。非蒸散型四元Ti‑Zr‑V‑Cu真空吸气剂薄膜的制备方法包括如下步骤：在基体材料上采用磁控溅射方法沉积形成Ti、Zr、V、Cu四种元素的致密层薄膜。上述非蒸散型四元Ti‑Zr‑V‑Cu真空吸气剂薄膜，Cu元素的加入是导致该薄膜具有较低电阻率，薄膜激活温度
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公开(公告)号：CN108418088A
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201810191724.7
申请日：2018-03-08
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种用于自由电子激光器的可切换反射镜的光学谐振腔，包括大理石底座、真空腔体、多个反射镜及镜托、镜台卡槽、六维精密调整平台、反射镜的镜库及其运动机构、抓镜机械手及其运动机构；真空腔体连接所述大理石底座并置于其上，多个反射镜及镜托、镜库、抓镜机械手、六维精密调整平台均处于所述真空腔体内，六维精密调整平台竖直放置并与所述真空腔体的底板连接。可实现多个反射镜在线快速切换，且每个反射镜切换到工作位置后均可实现五维独立精密调节。由于单个反射镜的曲率、耦合输出孔大小均已固定，仅能覆盖较小范围的振荡器自由电子激光输出。可应用于红外、太赫兹科学技术领域、如太赫兹成像、能源化学研究等。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113154156A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110556865.6
申请日：2021-05-21
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种小通径系列超高真空链式卡箍法兰组件，包括第一法兰、第二法兰和卡箍，卡箍用于实现第一法兰的第一法兰盘与第二法兰的第二法兰盘之间的密封连接。首端卡箍压块、中间卡箍压块和末端卡箍压块依次通过连接条铰接连接，形成柔性卡箍结构。本方案公开的小通径系列超高真空链式卡箍法兰组件的第一法兰盘和第二法兰盘的端部厚度为3‑5mm，首端卡箍压块、中间卡箍压块和末端卡箍压块的厚度为14‑18mm，小通径系列超高真空链式卡箍法兰组件与第一法兰和第二法兰组合安装后，整体厚度不超过18mm，相对于现有技术中螺栓锁紧的结构更节省轴向空间，减小了小通径系列超高真空链式卡箍法兰组件安装所需的轴向空间，能够适应衍射极限储存环紧凑结构。
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公开(公告)号：CN112503278A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN202011533501.8
申请日：2020-12-23
Applicant: 中国科学技术大学
IPC: F16L23/024 , F17D5/02
Abstract: 本发明公开了一种超高真空铜法兰密封型组件，用于超高真空系统，该组件包含螺栓连接结构法兰组件以及快卸型连接结构法兰组件两种；螺栓连接结构法兰组件包括一对螺栓连接法兰、一个弹簧增强金属C形环以及数个螺栓紧固件；快卸型连接结构法兰组件包括一对快卸法兰、一个弹簧增强金属C形环、一条压环链条；本发明的法兰件材料为铜材，能够解决传统不锈钢法兰件和衍射极限储存环铜真空室焊接困难的问题；同时，弹簧增强金属C形环依靠设计好的压缩变形量实现密封，利用该变形量可以使得两个法兰面贴合，从而解决衍射极限储存环上真空部件阻抗影响束流品质的问题；本发明密封结构简单加工难度大大降低，成本降低。
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公开(公告)号：CN102592963A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201110009273.9
申请日：2011-01-17
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种自动化气体脉冲刻蚀方法、装置及系统，其装置的连接为：装有反应气体和氮气的第一钢瓶和第二钢瓶分别经过电磁阀，连接到膨胀室，膨胀室的另一端与刻蚀室连接，刻蚀室连接挡油阱，挡油阱的另一端连接真空泵，第二钢瓶的另一路直接连接到刻蚀室。在膨胀室和刻蚀室、刻蚀室与挡油阱之间都放置电磁阀和针阀，通过控制上述电磁阀和针阀控制通放气和气流的大小。并在膨胀室和刻蚀室上各连接气压计，通过检测气压和控制各处电磁阀的开关实现脉冲刻蚀。最终实现低成本、高效率和高质量的自动化气体脉冲刻蚀。
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公开(公告)号：CN113699425A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202111014293.5
申请日：2021-08-31
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种非蒸散型四元Ti‑Zr‑V‑Cu真空吸气剂薄膜及其制备方法。非蒸散型四元Ti‑Zr‑V‑Cu真空吸气剂薄膜包括如下原子百分比组分：钛：20～35％；锆：20～35％；钒：20～35％；铜：2.0～8.0％；余量为杂质。非蒸散型四元Ti‑Zr‑V‑Cu真空吸气剂薄膜的制备方法包括如下步骤：在基体材料上采用磁控溅射方法沉积形成Ti、Zr、V、Cu四种元素的致密层薄膜。上述非蒸散型四元Ti‑Zr‑V‑Cu真空吸气剂薄膜，Cu元素的加入是导致该薄膜具有较低电阻率，薄膜激活温度
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公开(公告)号：CN102592963B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201110009273.9
申请日：2011-01-17
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种自动化气体脉冲刻蚀方法、装置及系统，其装置的连接为：装有反应气体和氮气的第一钢瓶和第二钢瓶分别经过电磁阀，连接到膨胀室，膨胀室的另一端与刻蚀室连接，刻蚀室连接挡油阱，挡油阱的另一端连接真空泵，第二钢瓶的另一路直接连接到刻蚀室。在膨胀室和刻蚀室、刻蚀室与挡油阱之间都放置电磁阀和针阀，通过控制上述电磁阀和针阀控制通放气和气流的大小。并在膨胀室和刻蚀室上各连接气压计，通过检测气压和控制各处电磁阀的开关实现脉冲刻蚀。最终实现低成本、高效率和高质量的自动化气体脉冲刻蚀。
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