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公开(公告)号：CN101570853A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200910116727.5
申请日：2009-05-08
Abstract: 本发明涉及利用磁控溅射制备形貌可控的锌和锌氧化物纳米材料的方法，其包括以下操作步骤：(1)将清洁衬底固定于真空腔内位于靶材正前方的夹具筒的筒壁上或靶材侧的真空腔腔壁上，夹具筒筒壁与靶材表面的最小距离在2cm以上，靶材是平板状金属锌靶，夹具筒的直径大于靶材的宽度尺寸；(2)将真空腔抽真空，然后通入工作气体，工作气体气压范围在0.02Pa～5Pa之间；(3)在靶材表面施加300V～900V的频率低于100KHz的交流电压进行中低频磁控溅射；通过调节溅射功率以及氧分压控制薄膜的氧化程度获得形貌可控的锌及锌氧化物纳米结构薄膜；这些锌或锌氧化物薄膜在含氧气氛中退火氧化后可以可获得到纳米线状薄膜、纳米棒状薄膜和纳米颗粒状薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101288928A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200810106217.5
申请日：2008-05-09
IPC: B23K35/30
CPC classification number: B23K35/22 , B23K35/00 , B23K35/28 , B23K35/286 , C22C1/0466 , C22C1/05
Abstract: 本发明涉及一种用于陶瓷/陶瓷或陶瓷/金属钎焊的陶瓷颗粒增强复合钎料。所述陶瓷颗粒增强复合钎料由90～99.8质量％的金属粉末A与0.2～10质量％的陶瓷颗粒B组成，金属粉末A由Ag粉和Cu粉混合而成，相对于金属粉末A，Ag粉摩尔比占80～99.5％，Cu粉摩尔比占0.5～20％。本发明的陶瓷颗粒增强复合钎料减少焊缝中气孔的产生，可以胜任工作温度在800℃左右的高温，并且增强焊缝在高温下氧化气氛和还原气氛中的寿命，从而得到具有高接头性能的焊接。
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公开(公告)号：CN101288928B
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：CN200810106217.5
申请日：2008-05-09
IPC: B23K35/30
CPC classification number: B23K35/22 , B23K35/00 , B23K35/28 , B23K35/286 , C22C1/0466 , C22C1/05
Abstract: 本发明涉及一种用于陶瓷/陶瓷或陶瓷/金属钎焊的陶瓷颗粒增强复合钎料。所述陶瓷颗粒增强复合钎料由90～99.8质量％的金属粉末A与0.2～10质量％的陶瓷颗粒B组成，金属粉末A由Ag粉和Cu粉混合而成，相对于金属粉末A，Ag粉摩尔比占80～99.5％，Cu粉摩尔比占0.5～20％。本发明的陶瓷颗粒增强复合钎料减少焊缝中气孔的产生，可以胜任工作温度在800℃左右的高温，并且增强焊缝在高温下氧化气氛和还原气氛中的寿命，从而得到具有高接头性能的焊接。
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公开(公告)号：CN101570853B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200910116727.5
申请日：2009-05-08
Abstract: 本发明涉及利用磁控溅射制备形貌可控的锌和锌氧化物纳米材料的方法，其包括以下操作步骤：(1)、将清洁衬底固定于真空腔内位于靶材正前方的夹具筒的筒壁上或靶材侧的真空腔腔壁上，夹具筒筒壁与靶材表面的最小距离在2cm以上，靶材是平板状金属锌靶，夹具筒的直径大于靶材的宽度尺寸；(2)、将真空腔抽真空，然后通入工作气体，工作气体气压范围在0.02Pa～5Pa之间；(3)、在靶材表面施加300V～900V的频率低于100KHz的交流电压进行中低频磁控溅射；通过调节溅射功率以及氧分压控制薄膜的氧化程度获得形貌可控的锌及锌氧化物纳米结构薄膜；这些锌或锌氧化物薄膜在含氧气氛中退火氧化后可以可获得到纳米线状薄膜、纳米棒状薄膜和纳米颗粒状薄膜。
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公开(公告)号：CN1996055A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200610161333.8
申请日：2006-12-18
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法，特征是采用磁控反应溅射仪或自由基辅助溅射仪，由Y与Zr按摩尔比为10－50∶100或由Al与Zr按摩尔比为3.5－9∶10组成的混合靶材作为溅射源；所得到的由稳定化的氧化锆高折射率层和非晶SiO2低折射率层交替堆叠而成的多层膜，其中稳定化的氧化锆是掺Y2O3或Al2O3作稳定剂的ZrO2；若掺杂的是Y2O3，则Y2O3与ZrO2的摩尔比为5－25∶100；若掺杂的是Al2O3，则Al2O3和ZrO2的摩尔比为1.7－4.5∶10。该多层膜可用作光学薄膜滤波片、灯泡外层滤红外光的薄膜或在500－1000℃高温下进行光学测量用的薄膜器件。
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公开(公告)号：CN100434937C
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200610161333.8
申请日：2006-12-18
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法，特征是采用磁控反应溅射仪或自由基辅助溅射仪，由Y与Zr按摩尔比为14-50∶100或由Al与Zr按摩尔比为3.5-9∶10组成的混合靶材作为溅射源；所得到的由稳定化的氧化锆高折射率层和非晶SiO2低折射率层交替堆叠而成的多层膜，其中稳定化的氧化锆是掺Y2O3或Al2O3作稳定剂的ZrO2；若掺杂的是Y2O3，则Y2O3与ZrO2的摩尔比为7-25∶100；若掺杂的是Al2O3，则Al2O3和ZrO2的摩尔比为1.7-4.5∶10。该多层膜可用作光学薄膜滤波片、灯泡外层滤红外光的薄膜或在500-1000℃高温下进行光学测量用的薄膜器件。
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