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发明公开
一种电离层垂斜测一体化探测时序设置方法审中-实审

公开(公告)号：CN118688868A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202410649094.9

申请日：2024-05-23

Applicant: 中国电波传播研究所(中国电子科技集团公司第二十二研究所)

Inventor： 孙凤娟 , 孙树计 , 周宝 , 徐彤 , 王俊江 , 王世凯 , 郑荣秋

IPC: G01V3/12 , G01V3/38

Abstract: 本发明公开了一种电离层垂斜测一体化探测时序设置方法，包括如下步骤：步骤1，启动电离层垂斜测一体化设备，配置电离层常规探测和加密探测参数；步骤2，加载常规探测参数，启动电离层常规探测流程；步骤3，判断电离层是否发生扰动：若是，进入步骤4；若否，继续开展常规探测；步骤4，启动电离层加密探测流程；步骤5，判断电离层扰动是否结束。本发明所公开的设置方法，提供了一种电离层垂斜测一体化探测时序，可同步实现电离层垂测和斜测，具有探测信息多、探测时效性高、探测参数配置灵活等特点。

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