一种适用于有限电扫两维机相扫雷达的高仰角跟踪方法

    公开(公告)号:CN118795463A

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202410851700.5

    申请日:2024-06-28

    Abstract: 本发明涉及一种适用于有限电扫两维机相扫雷达的高仰角跟踪方法,包括:建立雷达扫描范围模型和伺服参数控制模型,实时估算目标运动状态,观察最大角速度是否超出范围,若未超出范围则继续进行估算,超出范围则计算前置补偿参数,对目标航迹进行补偿,对补偿后的位置进行偏置闭环跟踪。本方法有效利用了已跟踪目标的信息,进行外推预测和估计,并进行“提前”补偿,解决了传统发现随动跟踪时,伺服性能不足时电扫范围利用不充分,目标偏离伺服法线过大,损失过大甚至目标超出电扫范围跟踪丢失的难题。

    一种相控阵天线系统级快速标校方法

    公开(公告)号:CN118795428A

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202410854381.3

    申请日:2024-06-27

    Abstract: 本发明涉及相控阵天线领域,具体涉及一种相控阵天线系统级快速标校方法。在进行中场校准时,无需进行中场校准单元的精确位置标定,通过利用测量数据进行相位解缠绕二维展开,并按照模型进行拟合从而实现阵面相位误差估计。技术要点主要是基于中场监测参数的折叠相位面二维展开解缠绕,并进行曲面拟合,实现阵面相位参数估计,无需通过高精度要求的标校单元和阵面位置标定即可实现高精度阵面校准。解决了相控阵雷达中场校准依赖性高、操作难度大的问题,大幅提升相控阵天线标校效率。

Patent Agency Ranking