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公开(公告)号:CN106048613A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201610522383.8
申请日:2016-07-01
Applicant: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
Abstract: 本发明涉及一种低发射率及低吸收比热控涂层的制备方法。包括以下操作步骤:(1)按常规铝合金浸蚀处理方法进行前处理;(2)将前处理天线阵面放入化学抛光溶液中化学抛光;(3)将抛光天线阵面按电压——时间动态参数关系微调技术进行电化学氧化;(4)按常规热纯水封孔处理,得到具有高精度低发射率/低吸收比热控涂层的铝合金缝隙波导天线阵面;(5)按常规半球发射率和太阳低吸收比测试方法进行测试;测试结果是半球发射率εH为0.32±0.02,太阳吸收比αs为0.18±0.02;(6)本发明的高精度低发射率及低吸收比热控涂层经总遭遇量为1.6×1020个/cm2的耐原子氧空间环境试验后,外观完好,不起泡、不起皮,不剥落,试验前后半球发射率和太阳吸收比的变化小于0.02。
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公开(公告)号:CN106048613B
公开(公告)日:2018-04-03
申请号:CN201610522383.8
申请日:2016-07-01
Applicant: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
Abstract: 本发明涉及一种低发射率及低吸收比热控涂层的制备方法。包括以下操作步骤:(1)按常规铝合金浸蚀处理方法进行前处理;(2)将前处理天线阵面放入化学抛光溶液中化学抛光;(3)将抛光天线阵面按电压——时间动态参数关系微调技术进行电化学氧化;(4)按常规热纯水封孔处理,得到具有高精度低发射率/低吸收比热控涂层的铝合金缝隙波导天线阵面;(5)按常规半球发射率和太阳低吸收比测试方法进行测试;测试结果是半球发射率εH为0.32±0.02,太阳吸收比αs为0.18±0.02;(6)本发明的高精度低发射率及低吸收比热控涂层经总遭遇量为1.6×1020个/cm2的耐原子氧空间环境试验后,外观完好,不起泡、不起皮,不剥落,试验前后半球发射率和太阳吸收比的变化小于0.02。
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公开(公告)号:CN113481492B
公开(公告)日:2023-04-25
申请号:CN202110683249.7
申请日:2021-06-18
Applicant: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
IPC: C23C22/00
Abstract: 本发明公开一种用于微波盒体液冷水道化学氧化的夹紧装置,包括滑动组件、内支撑组件、输液组件和外支撑组件,所述内支撑组件和所述外支撑组件均设置在所述滑动组件上,所述内支撑组件与所述外支撑组件、所述输液组件均连接;通过所述滑动组件调节所述内支撑组件和所述外支撑组件之间的相对位置,从而实现所述内支撑组件和所述外支撑组件对待加工零件的固定,所述输液组件对待加工零件的水道进行化学氧化加工;本发明不用改变原水道氧化机的主体结构及控制系统,即不需要对工艺和设备投入大量的改造资金;采用本装置后,操作人员可快速熟悉设备,在此设备实现多种微波盒体水道的化学氧化加工。
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公开(公告)号:CN113481492A
公开(公告)日:2021-10-08
申请号:CN202110683249.7
申请日:2021-06-18
Applicant: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
IPC: C23C22/00
Abstract: 本发明公开一种用于微波盒体液冷水道化学氧化的夹紧装置,包括滑动组件、内支撑组件、输液组件和外支撑组件,所述内支撑组件和所述外支撑组件均设置在所述滑动组件上,所述内支撑组件与所述外支撑组件、所述输液组件均连接;通过所述滑动组件调节所述内支撑组件和所述外支撑组件之间的相对位置,从而实现所述内支撑组件和所述外支撑组件对待加工零件的固定,所述输液组件对待加工零件的水道进行化学氧化加工;本发明不用改变原水道氧化机的主体结构及控制系统,即不需要对工艺和设备投入大量的改造资金;采用本装置后,操作人员可快速熟悉设备,在此设备实现多种微波盒体水道的化学氧化加工。
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公开(公告)号:CN118979298A
公开(公告)日:2024-11-19
申请号:CN202411085841.7
申请日:2024-08-08
Applicant: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
Abstract: 本发明涉及子阵天线技术领域,具体地,涉及一种铝合金天线表面功能涂层及其制备方法,所述铝合金天线表面功能涂层包括:导电涂层和热控涂层;其中,所述导电涂层含有铬酸盐及其水合物;所述热控涂层含有三氧化二铝。该铝合金天线表面功能涂层具有良好的空间环境适应性和高精度热控性能,热控涂层的为吸辐比趋于1,导电涂层同时兼具天线的电性能要求以及海域环境存储防盐雾要求,解决铝合金子阵天线地面防护及空间热控等技术难题。
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