一种后处理工艺钚价态的分析系统

    公开(公告)号:CN118067645A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202410275394.5

    申请日:2024-03-11

    Abstract: 本发明涉及一种后处理工艺钚价态的分析系统,所述后处理工艺钚价态的分析系统包括:光源,用于发射入射光;光学器件系统,用于对所述光源发射的入射光的波段范围进行过滤选择;双光束光纤系统,用于将过滤后的入射光分为两路;液芯波导毛细管池,用于盛放待测溶液和参比溶液;光谱仪,用于采集光谱数据;数据处理与计算机系统,用于对所述光谱数据进行分析处理。本发明提供一种非破坏性、不需预处理分离、可以直接进行料液中不同价态的钚离子含量分析;手套箱的布置方式可以将光源、光谱仪等关键部件置于手套箱外,既能避免关键部件被待测样品放射性沾污,又易于装置检维修。

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