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实用新型
一种屏蔽粘接层及其拼接屏蔽体有权

公开(公告)号：CN215007542U

公开(公告)日：2021-12-03

申请号：CN202120696552.6

申请日：2021-04-06

Applicant: 中国核动力研究设计院

Inventor： 吴莹 , 易伟 , 杨静 , 沈震宇 , 李书良 , 邱绍宇 , 魏梦玲 , 高岩

IPC: G21F1/10 , G21F3/00

Abstract: 本实用新型公开了一种屏蔽粘接层及其拼接屏蔽体，解决了现有的屏蔽体拼接结构会增加屏蔽板材的加工成本，或使拼接处部分减少屏蔽厚度，降低屏蔽效果，组合拼接屏蔽体结构稳定性差的技术问题。本实用新型的屏蔽粘接层包括粘接层和屏蔽层，所述屏蔽层与所述粘接层连接，所述粘接层连接相邻的屏蔽体。本实用新型的拼接屏蔽体，包括屏蔽粘接层和至少两个屏蔽体，所述屏蔽粘接层连接相邻的屏蔽体。本实用新型具有粘结强度高，拼接稳固，屏蔽效果好等优点。

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