一种用于KDP晶体的抛光液

    公开(公告)号:CN106519989A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201710012175.8

    申请日:2017-01-09

    CPC classification number: C09G1/04

    Abstract: 本发明提供了一种用于磷酸二氢钾(KDP)晶体的抛光液,所述抛光液由油相、表面活性剂和KDP水溶液组成,是一种特殊的油包水微乳液。在表面活性剂的作用下,一定浓度的KDP水溶液作为分散相以纳米级液滴的形式被分散在油相中。在抛光过程中由于挤压力和摩擦应力,KDP水溶液液滴突破表面活性剂和油相分子组成的界面膜,到达KDP晶体表面,并与表面的凸起部位发生缓释潮解作用;通过改变KDP水溶液的浓度,对潮解作用进行调控,最终可以实现KDP晶体表面的精密去除;抛光过程不产生新的物质且表面残留为有机物,通过相匹配的有机溶剂清洗即可实现表面清洁,不会造成二次损伤。本发明的抛光液制备方法简单、性质稳定,能够有效的削弱飞切刀纹,降低表面粗糙度,为创成超光滑洁净KDP表面提供良好的技术支撑。

    一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液

    公开(公告)号:CN106811135B

    公开(公告)日:2018-07-06

    申请号:CN201710017150.7

    申请日:2017-01-11

    CPC classification number: Y02P20/542

    Abstract: 本发明提供了一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液,所述抛光液由油相、分散相溶剂、酸性离子液体(AIL)、表面活性剂以及助表面活性剂组成。在表面活性剂和助表面活性剂的作用下,AIL溶液作为分散相被包覆在油相中,形成油包酸性离子液体微乳液(AIL/O)。在化学机械抛光时,AIL/O微乳液受到挤压和摩擦作用,AIL分子突破界面膜达到晶体表面,并与表面凸起部位发生化学反应,实现表面的选择性去除。本发明的用于KDP晶体的AIL/O抛光液,制备简单、性质稳定,综合考虑了KDP晶体的反应特性和化学机械抛光技术的特点,既具备了微乳液潮解抛光的高选择性,又兼容了有机酸/碱腐蚀抛光的优点,能够有效的削弱飞切刀纹,降低表面粗糙度,并且表面无残留。

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