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公开(公告)号：CN115970502A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211620756.7
申请日：2022-12-16
Applicant: 中国原子能科学研究院 , 中国原子能科学研究院瑞昌核物理应用研究院
IPC: B01D67/00
Abstract: 本发明涉及重离子微孔膜技术领域，尤其涉及非对称重离子微孔膜制作方法。本发明提供一种有效改善重离子微孔膜易堵塞和避免过滤速度衰减快的非对称重离子微孔膜制作方法。非对称重离子微孔膜制作方法，包括有以下步骤：S1、辐照；S2、热处理；S3、蚀刻；S4、清洗；S5、干燥。本发明通过对聚合物薄膜采用双面蚀刻，使得制作出非对称重离子微孔膜，被过滤流体从微孔的小口端进入，从大口端流出，可以减少小颗粒吸附在微孔内所致的阻塞，具有更好的过滤性能，具有更高的截留效率和更大的过滤速度，可以有效改善重离子微孔膜易堵塞的问题，避免过滤速度衰减快。
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公开(公告)号：CN114873340A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202210391955.9
申请日：2022-04-14
Applicant: 中国原子能科学研究院 , 瑞昌核物理应用研究院
Abstract: 本发明的实施例涉及核径迹技术领域，尤其涉及一种用于测量核孔膜的物理参数的设备和方法。适用于但不仅限于沿预定方向连续不间断传送的核孔膜的测量，可测量核孔膜的物理参数。设备包括：夹持系统，用于夹持核孔膜以将核孔膜的待测部分稳定地保持在测量位置；测量系统，用于在夹持系统将待测部分稳定地保持在测量位置时，测量核孔膜待测部分的物理参数；传送系统，当待测部分保持在测量位置时，用于使位于设备上游和下游的核孔膜沿原定方向继续传送。设备能够对处于传送状态的核孔膜进行测量，即不影响位于设备上下游的核孔膜的传送，也无需裁剪核孔膜，是一种无损测量设备。
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公开(公告)号：CN103928648A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410128928.8
申请日：2014-04-01
Applicant: 中国原子能科学研究院
CPC classification number: H01M2/1653 , H01M2/145
Abstract: 本发明属于电池隔膜技术领域，公开了一种耐高温锂电池隔膜及其生产方法。该耐高温隔膜的基材为聚酰亚胺薄膜，基材上均匀分布有微孔。其生产方法包括利用重离子对聚酰亚胺薄膜进行辐照及使用次氯酸钠溶液对辐照后的聚酰亚胺薄膜蚀刻两个步骤。本发明提供的锂电池隔膜及生产方法具有耐热性高、拉伸强度大、无环境污染问题、微孔分布均匀、能够满足锂电池大电流快速充放电需要的优点。
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公开(公告)号：CN119019738A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202411120853.9
申请日：2024-08-15
Applicant: 瑞昌核物理应用研究院 , 中国原子能科学研究院
Abstract: 本发明中公开了一种核孔膜微波化学蚀刻方法，包括：对蚀刻液施加微波辐射，以提高蚀刻液的化学活性；将经过重离子辐照的聚合物薄膜浸泡于施加了微波辐射的蚀刻液中进行核孔膜蚀刻，蚀刻时间为1分钟‑2小时；对蚀刻后的薄膜进行清洗，然后烘干，即完成核孔膜微波化学蚀刻。本发明同时公开了一种核孔膜微波化学蚀刻装置，该装置可用于实施上述核孔膜微波化学蚀刻方法。本发明方法将核孔膜蚀刻液置于微波辐射场当中，微波辐射场与蚀刻液蚀刻药剂分子和溶剂分子相互作用，从而增加反应物分子(蚀刻药剂分子)的化学能，促进化学蚀刻反应快速进行，显著提高蚀刻速度和核孔膜的生产效率。
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公开(公告)号：CN105148738A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201510586399.0
申请日：2015-09-15
Applicant: 中国原子能科学研究院
Abstract: 本发明涉及一种核径迹蚀刻膜的制作方法，包括以下步骤：辐照，使用加速器产生的适当能量的荷能离子辐照聚合物薄膜，使离子在薄膜中的射程大于薄膜厚度的2/3且小于薄膜厚度；蚀刻，将经过辐照的聚合物薄膜浸没在蚀刻液中进行蚀刻；清洗，用清水清洗蚀刻后的聚合物薄膜；烘干，将清洗完毕的薄膜聚合物烘干。本发明提供的制作方法，其工艺简单，易于实施，成本低，采用该方法，可制作出具有小口端截面圆直径(D1)为0.1-15微米、大口端截面圆直径(D2)为0.2-20微米的单锥形微孔的重离子微孔膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110112422A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201910416918.7
申请日：2019-05-17
Applicant: 中国原子能科学研究院 , 清华海峡研究院(厦门)
Abstract: 一种微孔金属箔的制造方法，包括如下步骤：S1、在金属箔的第一表面覆盖第一掩膜层，在金属箔的第二表面覆盖第二掩膜层，以形成覆膜金属箔；S2、使用荷能重离子对覆膜金属箔进行辐照，以在第一掩膜层和/或第二掩膜层内形成离子径迹；S3、对辐照后的覆膜金属箔进行蚀刻，以在覆膜金属箔上形成微孔；S4、去除经过蚀刻后的覆膜金属箔表面的第一掩膜层和第二掩膜层，得到微孔金属箔。本发明提供的上述制造方法具有成本低、工艺简单，生产效率高等特点；且按照本发明提供的方法制得的微孔金属箔的孔径较小，能够满足将其作为集流体制作电极的需求。
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公开(公告)号：CN108864466A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810756578.8
申请日：2018-07-11
Applicant: 中国原子能科学研究院
Abstract: 本发明属于核径迹蚀刻技术领域，涉及一种带图案核孔膜的制造方法。所述的制造方法依次包括如下步骤：(1)辐照：对高分子材料薄膜进行辐照；(2)热处理：将辐照后的高分子材料薄膜放在耐高温的底板上，其上再放置带有图案的热处理模板进行热处理；(3)蚀刻：将热处理后的高分子材料薄膜置于化学蚀刻液中进行蚀刻；(4)清洗和烘干：对蚀刻后的高分子材料薄膜进行清洗和烘干。利用本发明的带图案核孔膜的制造方法，能够简易、低成本、节约时间的制造带图案核孔膜。
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公开(公告)号：CN110112422B
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201910416918.7
申请日：2019-05-17
Applicant: 中国原子能科学研究院 , 清华海峡研究院(厦门)
Abstract: 一种微孔金属箔的制造方法，包括如下步骤：S1、在金属箔的第一表面覆盖第一掩膜层，在金属箔的第二表面覆盖第二掩膜层，以形成覆膜金属箔；S2、使用荷能重离子对覆膜金属箔进行辐照，以在第一掩膜层和/或第二掩膜层内形成离子径迹；S3、对辐照后的覆膜金属箔进行蚀刻，以在覆膜金属箔上形成微孔；S4、去除经过蚀刻后的覆膜金属箔表面的第一掩膜层和第二掩膜层，得到微孔金属箔。本发明提供的上述制造方法具有成本低、工艺简单，生产效率高等特点；且按照本发明提供的方法制得的微孔金属箔的孔径较小，能够满足将其作为集流体制作电极的需求。
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公开(公告)号：CN111530297A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN202010380890.9
申请日：2020-05-08
Applicant: 中国原子能科学研究院 , 瑞昌核物理应用研究院
IPC: B01D67/00
Abstract: 本发明公开了一种具有图案的核孔膜的制造方法，包括以下步骤：提供高分子材料薄膜；对高分子材料薄膜进行重离子辐照，以便在高分子材料薄膜中形成核径迹；对经过重离子辐照的高分子材料薄膜的至少一部分进行激光照射，以使高分子材料薄膜的至少一部分中的核径迹发生改变；对经过激光照射的高分子材料薄膜进行化学蚀刻，以便通过化学腐蚀使核径迹形成为微孔，同时在高分子材料薄膜的经过激光照射的至少一部分上和在未被激光照射的其余部分上产生不同的蚀刻效果，从而形成具有图案的核孔膜。本发明以简易、低成本且节约时间的方式制造具有图案的核孔膜，同时减少了胶黏剂和覆膜的使用，减少环境污染。
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公开(公告)号：CN105233700A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201510587397.3
申请日：2015-09-15
Applicant: 中国原子能科学研究院
Abstract: 本发明涉及具有单锥形微孔的核径迹蚀刻膜的制作方法，包括以下步骤：制作双层膜，将规格相同的两张聚合物薄膜复合在一起，得到双层膜；辐照，使用加速器产生的荷能离子辐照双层膜，使辐照产生的潜径迹贯穿双层膜；蚀刻：将经过辐照的双层膜浸没在蚀刻液中进行蚀刻；烘干，将蚀刻后的双层膜烘干；分离双层膜，将烘干的双层膜的两层薄膜分离，得到具有单锥形微孔的核径迹蚀刻膜。本发明提供的制作方法，其工艺简单，易于控制，成本低，采用该方法可制作出具有小口端截面圆直径(D1)为0.1-15微米、大口端截面圆直径(D2)为0.2-20微米的单锥形微孔的重离子微孔膜。
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