一种用于辐射环境的PLC控制系统
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119596835A

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN202411801338.7

    申请日:2024-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种用于辐射环境的PLC控制系统,该系统包括控制柜、多个PLC控制子系统和各种电气器件,其特征在于:所述多个PLC控制子系统包括布设在近端加速器现场的耐辐射PLC控制子系统、以及布设在远端非加速器现场的非耐辐射PLC控制子系统,所述非耐辐射的PLC控制子系统用于诊断耐辐射的PLC控制子系统的故障情况,所述耐辐射的PLC控制子系统采用双模冗余设计。本发明通过引入辐射加固的PLC、冗余设计和抗干扰设计,有效降低了因辐射引发的控制系统失效风险。同时,它能够对靠近加速器的设备进行控制,具备更强的通用性,避免了为每个设备的控制器增加重金属屏蔽,从而减少了人员的工作负担。

    一种产生高流强He2+离子的ECR离子源的磁体系统

    公开(公告)号:CN118591073A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202410730532.4

    申请日:2024-06-06

    Abstract: 本发明提出了一种产生高流强He2+离子的ECR离子源的磁体系统,该系统利用原有2.45GHzECR离子源的结构空间,增加了由径向磁场和切向磁场交替布设组成的约束磁场,其特点是:该约束磁场形成的约束区域近乎等于放电腔正中间产生氦二正离子的共振区域,通过约束磁场将氦正离子和电子约束在放电腔正中间的共振区域内,提高了氦二正离子在共振区域混合束中的比例;在原本只适合产生单电荷态的低频ECR离子源中加入了径向切向约束磁铁,产生了中等电荷态的高流强的氦二正离子,在提高氦二正的产量和降低成本二者之间,找到最佳结合点。

    用于质子束流线的丝扫描探测器、控制单元、探测方法

    公开(公告)号:CN118377051A

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410511090.4

    申请日:2024-04-26

    Abstract: 本发明公开了一种用于质子束流线的丝扫描探测器、控制单元、探测方法,该探测器设有互为垂直的双丝结构,靶头运动方向与X‑Y方向夹角45度;该控制单元为并行接收各自丝扫描探测器的丝扫描位置反馈信息、以及并行接收丝扫描弱流信号,根据这二个信号判断当前位置的束流中心点是否偏移设定位置,并上报给上位机;该探测方法包括在质子治疗束流线上间隔布设多个丝扫描探测器;该多个丝扫描探测器在同一时刻并行探测所在位置的束流,并行将各自丝扫描位置反馈信息发送给各自探测器数字控制单元所对应的模拟量数据采集与处理单元;本发明解决了现有技术的电离室方法不能快速找出导致束流偏心的故障部位,重复观测率高,耗时耗力的问题。

    基于目标一次谐波进行全超导回旋加速器磁场垫补的方法

    公开(公告)号:CN119729990A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411680955.6

    申请日:2024-11-22

    Abstract: 本发明公开了一种基于目标一次谐波进行全超导回旋加速器磁场垫补的方法;包括:确定目标一次谐波的分布要求;确定用于产生目标一次谐波的超导线圈组:将一组线圈组成超导线圈组;获得每一超导线圈组的调节方案和总的调节方案数量m:确定径向测量点的位置、数量以及总的谐波分量数n,基于傅里叶分析,建立基于单位电流调节量以及总的谐波分量n和总的调节方案数m的一次谐波的垫补矩阵A;基于傅里叶分析,建立基于总的谐波分量n的目标一次谐波幅度矩阵B;列出垫补方程B=AX,并求解X,X为调节方案的叠加系数的矩阵;本发明以一个线圈组为单位进行磁场垫补,一组线圈形成的一次谐波更能表达磁场的分布形状,也就更能代替常规的镶条垫补方法。

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