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公开(公告)号：CN116246003A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202310512311.5
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
IPC: G06T15/06
Abstract: 本申请提供一种电光调制设备初始对准信息分析系统及方法，属于电光调制技术领域。电光调制设备初始对准信息分析系统包括：理论调制设备、实际调制设备以及对准信息处理器，其中，理论调制设备具体可以执行：获取待执行三维偏振光线追迹的光学元件组；根据光学元件的类型确定待使用的三维偏振追迹模型；基于待使用的三维偏振追迹模型确定待执行三维偏振光线追迹的光学元件组的三维偏振光线追迹结果；按照三维偏振光线追迹结果以及预先配置的探测器响应模型进行三维偏振光线追迹的可视化处理，并显示可视化处理的结果。本申请可以适用于三维场景下的偏振光线追迹处理，提高电光调制设备工作的准确性。
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公开(公告)号：CN116224364A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310512302.6
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
IPC: G01S17/89
Abstract: 本申请提供一种三维成像系统、方法、装置、设备及存储介质，属于光电控制技术领域。该系统包括：控制模块、激光发射模块、驱动模块、激光接收模块、面阵探测器以及图像生成模块；控制模块用于控制激光发射模块产生激光并向目标物体发射激光以及控制驱动模块产生驱动信号；驱动模块用于通过驱动信号控制激光接收模块对返回的激光进行调制，激光接收模块用于将从目标物体返回的激光调制为目标光信号；面阵探测器用于根据激光接收模块所发送的目标光信号转换为目标电信号，并基于目标电信号生成目标物体的强度图像；图像生成模块用于在控制模块的控制下基于目标物体的强度图像解算出目标三维图像。本申请可以提高整个系统的稳定性和生成三维图像的准确性。
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公开(公告)号：CN116224572B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310512310.0
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
Abstract: 本申请提供一种偏振片透偏方向对准系统及方法，属于光学对准技术领域。偏振片透偏方向对准系统中的第一偏振片用于对初始激光进行偏振调节并将得到的偏振光发射到锥光调节装置；单轴晶体基于双折射特性和偏振锥光产生第一折射光和第二折射光，并发射到第二偏振片；第二偏振片用于对第一折射光和第二折射光进行偏振调节，并将调节后的第一折射光和调节后的第二折射光发射到采集处理设备；采集处理设备用于基于目标电信号得到锥光干涉图样、提取锥光干涉图样中的特征信息，根据特征信息确定第一偏振片和第二偏振片是否对准、控制第一偏振片和第二偏振片保持在透偏方向对准时的旋转角度。可以提高对准偏振片的透射方向的精度和可靠性。
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公开(公告)号：CN116224364B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310512302.6
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
IPC: G01S17/89
Abstract: 本申请提供一种三维成像系统、方法、装置、设备及存储介质，属于光电控制技术领域。该系统包括：控制模块、激光发射模块、驱动模块、激光接收模块、面阵探测器以及图像生成模块；控制模块用于控制激光发射模块产生激光并向目标物体发射激光以及控制驱动模块产生驱动信号；驱动模块用于通过驱动信号控制激光接收模块对返回的激光进行调制，激光接收模块用于将从目标物体返回的激光调制为目标光信号；面阵探测器用于根据激光接收模块所发送的目标光信号转换为目标电信号，并基于目标电信号生成目标物体的强度图像；图像生成模块用于在控制模块的控制下基于目标物体的强度图像解算出目标三维图像。本申请可以提高整个系统的稳定性和生成三维图像的准确性。
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公开(公告)号：CN116224572A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310512310.0
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
Abstract: 本申请提供一种偏振片透偏方向对准系统及方法，属于光学对准技术领域。偏振片透偏方向对准系统中的第一偏振片用于对初始激光进行偏振调节并将得到的偏振光发射到锥光调节装置；单轴晶体基于双折射特性和偏振锥光产生第一折射光和第二折射光，并发射到第二偏振片；第二偏振片用于对第一折射光和第二折射光进行偏振调节，并将调节后的第一折射光和调节后的第二折射光发射到采集处理设备；采集处理设备用于基于目标电信号得到锥光干涉图样、提取锥光干涉图样中的特征信息，根据特征信息确定第一偏振片和第二偏振片是否对准、控制第一偏振片和第二偏振片保持在透偏方向对准时的旋转角度。可以提高对准偏振片的透射方向的精度和可靠性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116224627B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310512303.0
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
IPC: G02F1/01
Abstract: 提供一种偏振调制设备的对准系统及方法，属于光学对准技术领域。该系统包括第一对准装置、第二对准装置以及处理设备；第一对准装置用于将基于电光晶体射向第一对准装置的光束得到的第一电信号输出到处理设备；处理设备用于在电光晶体的光轴对准的情况下将第二对准装置移入偏振调制设备的光路中；第二对准装置用于将基于射入第二对准装置的光束得到的第二电信号输出到处理设备；处理设备还用于在起偏器和检偏器的透射方向对准的情况下，向电光晶体施加电压并调整电光晶体的位姿，并得到第三干涉图像，根据第三干涉图像的特征信息控制偏振调制设备中各元件处于在目标位姿信息所指示的位姿。可以达到对偏振调制设备进行整体的高精度对准的效果。
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公开(公告)号：CN118249302A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410304692.2
申请日：2024-03-18
Applicant: 中国人民解放军63921部队
Abstract: 本申请提供了一种雷电抑制器及其防护方法，雷电抑制器包括：多类型输入连接器模块、多类型输出连接器模块、电源雷电抑制模块、通信雷电抑制模块、射频雷电抑制模块、多点雷电流泄放通路；电源雷电抑制模块和通信雷电抑制模块均设置于低频腔室中，通过电磁腔室阻隔板隔离；射频雷电抑制模块设置于射频腔室中；电源雷电抑制模块、通信雷电抑制模块、射频雷电抑制模块分别与多类型输入连接器模块、多类型输出连接器模块、多点雷电流泄放通路连接。本申请提供一种多类型信号一体化的雷电抑制器，通过合理的分腔与多级泄放通路的设计，避免在雷电抑制器内部信号产生相互间的干扰。
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公开(公告)号：CN116246003B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310512311.5
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
IPC: G06T15/06
Abstract: 本申请提供一种电光调制设备初始对准信息分析系统及方法，属于电光调制技术领域。电光调制设备初始对准信息分析系统包括：理论调制设备、实际调制设备以及对准信息处理器，其中，理论调制设备具体可以执行：获取待执行三维偏振光线追迹的光学元件组；根据光学元件的类型确定待使用的三维偏振追迹模型；基于待使用的三维偏振追迹模型确定待执行三维偏振光线追迹的光学元件组的三维偏振光线追迹结果；按照三维偏振光线追迹结果以及预先配置的探测器响应模型进行三维偏振光线追迹的可视化处理，并显示可视化处理的结果。本申请可以适用于三维场景下的偏振光线追迹处理，提高电光调制设备工作的准确性。
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公开(公告)号：CN116224627A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310512303.0
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
IPC: G02F1/01
Abstract: 提供一种偏振调制设备的对准系统及方法，属于光学对准技术领域。该系统包括第一对准装置、第二对准装置以及处理设备；第一对准装置用于将基于电光晶体射向第一对准装置的光束得到的第一电信号输出到处理设备；处理设备用于在电光晶体的光轴对准的情况下将第二对准装置移入偏振调制设备的光路中；第二对准装置用于将基于射入第二对准装置的光束得到的第二电信号输出到处理设备；处理设备还用于在起偏器和检偏器的透射方向对准的情况下，向电光晶体施加电压并调整电光晶体的位姿，并得到第三干涉图像，根据第三干涉图像的特征信息控制偏振调制设备中各元件处于在目标位姿信息所指示的位姿。可以达到对偏振调制设备进行整体的高精度对准的效果。
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公开(公告)号：CN116224610A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310512315.3
申请日：2023-05-09
Applicant: 中国人民解放军63921部队
IPC: G02B27/30
Abstract: 本申请提供一种电光晶体光轴对准系统及方法，属于光学对准技术领域。该系统包括：分光装置、第一反射装置、第一透镜、第二反射装置以及光学处理设备。分光装置用于将来自光束产生装置的原始光束拆分为第一光束和第二光束；第一反射装置用于将第一光束的反射光束射入分光装置；第二反射装置用于将第二光束的折射光的反射光束射入第一透镜；分光装置还用于将第一光束的反射光束和准直后反射光束反射到光学处理设备；光学处理设备用于基于干涉图像确定待对准电光晶体的光轴是否对准，并在待对准电光晶体的光轴对准时记录待对准电光晶体的目标位姿，并控制待对准电光晶体处于目标位姿。可以达到在确保对准精度的同时还能提高适用性、降低成本的效果。
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