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公开(公告)号：CN119270421A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411820225.1
申请日：2024-12-11
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明提供的光纤光栅光退火系统及方法，包括：备待退火的光纤光栅，确认待退火光纤光栅的实际退火要求和载体光纤参数；确定初次退火操作时的退火激光波长、退火激光初始功率和退火时间；进行第i次退火操作；测量第i次退火操作处理后光纤光栅的光栅功率温升系数；判断第i次退火操作处理后光纤光栅是否满足光纤光栅的实际退火要求或达到退火极限；若不满足，根据第i次退火操作处理后的光纤光栅的光栅功率升温系数以及第i次退火操作处理后光纤光栅反射信号光的光谱信息，更新第i+1次退火操作对应的退火激光波长、退火激光功率和退火时间，i=i+1，并进行第i+1次退火操作。本发明降低了光纤光栅功率温升系数。
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公开(公告)号：CN117856017A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410043339.3
申请日：2024-01-11
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
IPC: H01S3/067 , H01S3/08 , H01S3/0804
Abstract: 一种基于泵浦光调控的TMI效应抑制方法、光纤放大器及振荡器，包括：泵浦光在增益光纤的内包层传输，通过沿着增益光纤的长度方向在增益光纤的内包层上刻写分布式泵浦光反射光栅，调整泵浦光功率在增益光纤中的分布，进而控制增益光纤各处增益的分布、控制增益光纤各处的热量产生、抑制热致光栅的形成，实现抑制TMI效应、提高TMI阈值的目的。
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公开(公告)号：CN117394121A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311373157.4
申请日：2023-10-23
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
IPC: H01S3/067 , H01S3/0941 , H01S3/094 , H01S3/08
Abstract: 本发明提出一种多芯光纤振荡器，包括泵浦源、泵浦功率合束器、多芯高反光栅阵列、多芯增益光纤和多芯低反光栅阵列，在一根多芯增益光纤的多个纤芯分别刻写布拉格光栅形成谐振腔，通过多芯增益光纤中各纤芯在空间上的间隔分离，在增大模场面积同时保持各个纤芯的TMI阈值，从而使得单纤功率成倍数提升。本发明在增大模场面积，减小总体有效长度的同时，能更好地缓解模式不稳定效应，有较好的功率提升潜力，在高功率光纤激光器中具有重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN119376010A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202411940373.7
申请日：2024-12-26
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
Abstract: 本发明属于光纤刻写领域，具体涉及到基于卷对卷的分布式光纤光栅刻写装置及刻写方法，装置包括光纤传动机构、飞秒激光光纤刻写机构和在线监测机构；所述光纤传动机构包括依次设置的放卷辊、光纤导向机构和收卷辊，所述光纤导向机构用于使光纤在刻写区域内以直线方向进行移动；所述在线监测机构包括光源和光谱仪，所述光源与所述放卷辊同步转动且与放卷辊内光纤的首端连接，所述光谱仪与所述收卷辊同步转动且与收卷辊内光纤的尾端连接。本发明通过在放卷辊上同步转动设置光源，在收卷辊上同步转动设置光谱仪，通过光源对光纤注入光信息，并通过光谱仪接受光信号，反馈刻写的操作是否正常，进而实时监控刻写状态。
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公开(公告)号：CN119253395A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411778875.4
申请日：2024-12-05
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
Abstract: 本发明提供基于波前整形的高功率多模光纤激光放大器，包括种子光波前控制单元、多模增益光纤放大单元、输出光斑探测和反馈单元；种子光波前控制单元，利用加载有相位图的空间光调制器对偏振种子激光器输出的种子光进行波前调制；多模增益光纤放大单元，用于对种子光波前控制系统输出的输出波前调制后的种子光进行功率放大；输出光斑探测和反馈单元，用于将所述多模增益光纤放大系统绝大部分功率的激光输出，同时采集其余小部分功率的激光用于远场光斑信息探测，基于探测到的远场光斑信息计算对应的远场桶中功率，并以远场桶中功率作为评价函数运行优化算法生成最优的相位图，并加载在空间光调制器上，实现闭环反馈控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117430326A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202311373159.3
申请日：2023-10-23
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
IPC: C03B37/012 , C03B37/018 , C03B37/027 , C03C25/105 , C03C25/106 , C03C25/12 , C03C25/24 , G02B6/02 , H01S3/067
Abstract: 本发明提出一种多芯光纤制备方法、多芯光纤及光纤振荡器，包括：准备内石英管并进行研磨加工；对研磨加工后的内石英管进行芯层沉积，在芯层沉积形成的疏松层内掺杂稀土离子，并通过加热沉积芯层的内石英管以除去内石英管与芯层之间的缝隙，烧结缩棒得到单芯预制棒；准备外石英管，并将N根单芯预制棒平行置于外石英管进行套管组束，并使用实心石英棒对单芯预制棒之间的空隙进行填充，控制相邻单芯预制棒之间纤芯与纤芯之间的间隔，从而得到多芯预制件；将多芯预制件置入拉丝塔进行拉丝和涂覆，得到多芯光纤。本发明可以确保多芯光纤中各个芯光信号的独立传输，有利于提高光纤整体的TMI阈值。
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公开(公告)号：CN119270421B
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411820225.1
申请日：2024-12-11
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明提供的光纤光栅光退火系统及方法，包括：备待退火的光纤光栅，确认待退火光纤光栅的实际退火要求和载体光纤参数；确定初次退火操作时的退火激光波长、退火激光初始功率和退火时间；进行第i次退火操作；测量第i次退火操作处理后光纤光栅的光栅功率温升系数；判断第i次退火操作处理后光纤光栅是否满足光纤光栅的实际退火要求或达到退火极限；若不满足，根据第i次退火操作处理后的光纤光栅的光栅功率升温系数以及第i次退火操作处理后光纤光栅反射信号光的光谱信息，更新第i+1次退火操作对应的退火激光波长、退火激光功率和退火时间，i=i+1，并进行第i+1次退火操作。本发明降低了光纤光栅功率温升系数。
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公开(公告)号：CN118642221A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202411123166.2
申请日：2024-08-15
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
IPC: G02B6/02 , B23K26/362 , G02B27/09 , B23K26/082 , B23K26/064
Abstract: 本发明提供一种基于衍射光斑的自动刻写光纤光栅的方法及装置，包括：在系统光路调整阶段，依次安装柱面透镜和相位掩模版，根据对应的衍射光斑性质调节至最佳状态。光路调整完毕后，在每次刻写光纤光栅前，只需要将光纤固定在光纤夹具上，计算机会根据衍射光斑的形态，自动控制光纤夹具移动，直到衍射光斑达到所需要的图像，此时光纤位置调整完毕，调节可调谐衰减器增大飞秒激光功率，自动化刻写光纤光栅。本发明中光纤光栅的性能参数严格可控，稳定性好，适用于大规模制备，可以广泛应用在传感和激光等领域。
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公开(公告)号：CN117849939A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410019787.X
申请日：2024-01-05
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明提出一种光纤光栅的刻写方法、装置及光纤光栅，包括确定待刻写光纤光栅的折射率调制区域形状及尺寸；根据待刻写光纤光栅的折射率调制区域尺寸确定飞秒激光的平均功率以及飞秒激光的光束直径；确定待刻写光纤光栅的折射率调制区域在光纤内部的位置，确定折射率调制区域的初始刻写位置；飞秒激光从z轴方向入射并聚焦到待刻写光纤光栅的光纤内部的初始刻写位置，同时控制光纤沿y轴方向匀速移动设定距离，完成单平面的具有所述折射率调制区域形状及尺寸的光纤光栅的刻写。本发明有效提高了逐面刻写光纤光栅的加工效率。
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公开(公告)号：CN119216767A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202411763072.1
申请日：2024-12-03
Applicant: 中国人民解放军国防科技大学
IPC: B23K26/06 , B23K26/064 , B23K26/03 , B23K26/067 , G02B6/02 , G02B27/09 , G02B27/28 , G02B27/30
Abstract: 本发明提供一种飞秒激光多焦点并行加工方法、装置与光纤光栅刻写方法，在空间光调制器上叠加多个闪耀光栅模板全息图，将一束飞秒激光分成特性相同的多束飞秒激光，每一束分束光均具有与分束前的飞秒激光相同的相位、直径等信息。通过物镜聚焦之后，在焦平面上每一束飞秒激光的焦点也拥有和原先的飞秒激光焦点相同的大小和焦深。此外每束飞秒激光仅受对应的闪耀光栅模板的作用，通过调节对应的闪耀光栅模板，可以单独调节某一束飞秒激光的相位信息，从而改变单独某一束飞秒激光的相位、位置、形态等参数，实现了加工沿飞秒激光传播方向有较长均匀改性区的微纳结构，实现了多焦点并行加工，可应用于光纤光栅等的加工。
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