-
公开(公告)号:CN118420948A
公开(公告)日:2024-08-02
申请号:CN202410655148.2
申请日:2024-05-24
申请人: 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院
摘要: 本发明公开了一种仿生树叶及其制备方法,首先通过热水浴使叶绿素酶失活,再通过制作叶绿素/PVA薄膜和添加光稳定剂等阻断叶绿素的光氧化过程,可使天然植物叶片在不改变光谱性质前提下提高稳定性和耐候性的方法,制得光谱性能稳定的仿生树叶。
-
公开(公告)号:CN117023570A
公开(公告)日:2023-11-10
申请号:CN202311009197.0
申请日:2023-08-10
申请人: 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院
IPC分类号: C01B32/198 , C01B32/194 , H05K9/00
摘要: 本发明的基于氧化石墨烯的电磁辐射消除方法,在氧化石墨烯中掺杂了层状铁钴镍氢氧化物,使得氧化石墨烯与层状铁钴镍氢氧化物之间产生了更丰富的界面;使得界面极化增强;并且层状铁钴镍氢氧化物和氧化石墨烯之间丰富的界面可以提供多次散射和反射掺杂后会产生晶格畸变,导致介质损耗增强;并且当LDH/G的匹配厚度为4.5mm时,在14.38GHz时最小反射损耗达到‑46.1dB,有效吸收带为5.9GHz,从而具备了优异的电磁辐射消除能力;同时兼顾做到了厚度薄、质量轻、吸收频带宽、吸收强度高,同时具备耐高温和耐酸碱的性能要求。
-
公开(公告)号:CN115170623A
公开(公告)日:2022-10-11
申请号:CN202210650618.7
申请日:2022-06-09
申请人: 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院
摘要: 本发明属于多源影像配准方法技术领域,具体涉及一种不同尺度的多源影像配准方法,步骤1:多源影像特征点提取,在考虑多源影像中特征点在尺度和方向不变的基础上,加入了因传感器采集方式不同引起的图像中相同目标在梯度上产生的反向变化,提高了特征点提取的有效性,步骤2:几何约束的匹配:增加了多传感器采集目标影像的几何约束,考虑了传感器采集影像之间固有的几何条件,通过几何约束后的特征点克服了多源影像中特征点梯度变化描述的复杂性引起的错误匹配的难点,提高了特征点匹配准确性和鲁棒性,步骤3:影像配准参数优化,通过采用了最小二乘模型,对配准参数进行了优化,提高了最终影像配准的精度。
-
公开(公告)号:CN114966574A
公开(公告)日:2022-08-30
申请号:CN202210378621.8
申请日:2022-04-12
申请人: 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院
IPC分类号: G01S7/38
摘要: 本发明公开了一种对抗星载SAR侦察的主动式电子伪装干扰方法,S1、顾及地形信息的电磁伪装时段解算;S2、基于散射分布增量的虚假目标电磁信号生成;S3、进行分布式组网干扰;首先结合地形信息解算伪装干扰时段,根据已有雷达影像信息建立目标背景模板,采用散射分布增量的模式生成虚假目标的干扰信息,最后采用分布式组网干扰方式将干扰信息调制成雷达信号发射,解决了SAR运动参数和信号参数分别估计产生误差积累等问题,提高了电磁伪装的逼真度和时效性。
-
公开(公告)号:CN118147592A
公开(公告)日:2024-06-07
申请号:CN202410466061.0
申请日:2024-04-18
申请人: 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院
IPC分类号: C23C14/35 , G03F7/00 , G02B1/00 , G02B5/00 , C23C14/18 , C23C14/58 , C23C14/04 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , B22F9/06 , B22F1/054 , B82Y20/00
摘要: 本发明属于纳米光子学以及纳米加工技术领域,具体涉及一种表面等离激元超材料制备方法,包括以下步骤:S1、衬底材料准备,选定衬底材料并对其进行加工清理后备用;S2、根据S1得到衬底材料后,旋涂光刻胶厚对衬底表面进行光刻图形,并将尺寸控制在50纳米到1微米之间,厚度在5纳米到1微米之间;S3、根据S2得到光刻图形后的衬底,将衬底放入磁控溅射系统中进行金(Au)靶材溅射,设定参数对S2中光刻图形的间隙进行填充。本发明提出采用在磁控溅射金(Au)靶材前对衬底表面进行光刻图形,使得磁控溅射金(Au)靶材均匀的填充在光刻图形的缝隙间,从而在退火过程中随着金(Au)靶材的溶解,能够使金(Au)靶材变为尺寸相近的金纳米颗粒(Au NPs)。
-
公开(公告)号:CN117468245A
公开(公告)日:2024-01-30
申请号:CN202311459947.4
申请日:2023-11-03
申请人: 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院
摘要: 本发明的兼容可见光伪装的低发射率功能选择性材料及其制备方法,材料为层状结构,从上到下依次为:保护层、低发射率纳米功能涂层、光学伪装涂层、基布;所述保护层材料包括聚氨酯、丙烯酸树脂、有机硅‑丙烯酸酯树脂其中一种和溶剂;所述保护层材料的溶剂包括乙酸丁酯、二甲苯其中一种;所述低发射率纳米功能涂层包括金属纳米线、PMMA薄膜;本材料在以玻璃为基底的低发射率红外隐身涂层的可见光透过率达到了79%,具有优异的可见光伪装性能;并且在实现光学波段透射率高的前提条件下,本材料在8‑14微米,以布为基底的低发射率红外隐身涂层的红外发射率为0.48;可以兼容可见光伪装与低发射率。
-
公开(公告)号:CN110591687B
公开(公告)日:2023-04-18
申请号:CN201910765406.1
申请日:2019-08-19
申请人: 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院 , 上海炬通实业有限公司 , 江苏宇鹏新材料科技发展有限公司 , 江苏炬通新材料有限公司
IPC分类号: C09K9/00 , C09D133/26 , C09D7/61 , C09D7/63
摘要: 本发明公开了一种基于多酸的光致变色材料及其制备方法,以质量份数计,它包括0.0‑30%的钨酸盐,0.0‑30%的钼酸盐,0.0‑10%的无机金属盐,0.0‑10%的无机酸,0.0‑10%的多元醇类配体,0.0‑30%的相转移剂,0.0‑10%的有机胺类,0.0‑5%的表面活性剂。其有益效果在于:它通过先合成高质纯的多酸材料作为良好的电子受体,再进一步和带活性基团氨基的有机胺类化合物(电子给体)复合,通过添加表面活性剂优化材料的形貌,获得均匀更小尺寸的复合纳米材料,使光致变色响应速度加快。不同多酸化合物影响颜色变化,不同有机胺影响稳定性能和变色速率。有利于解决颜色变化单一的问题;聚合型有机胺类可以作为涂料的成膜物质,也能提供丰富的电子给体,满足光致变色的需求,而且能有效提高变色稳定性。
-
-
-
-
-
-