一种枝晶结构Cu-Pt纳米花粒子的制备方法

    公开(公告)号:CN106216708B

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201610714866.8

    申请日:2016-08-24

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明提供了一种枝晶结构Cu‑Pt纳米花粒子的制备方法,包括以下步骤:(1)将CuCl2·2H2O、聚乙烯吡咯烷酮、抗坏血酸和乙二醇混合,通入氮气,使氮气充分扩散至整个反应体系;(2)加热至60‑100℃,反应;(3)加入氯铂酸溶液,进一步加热至120‑180℃,反应,冷却;(4)分离,洗涤,得到产物;其中,CuCl2·2H2O与氯铂酸的摩尔比为5:3。本发明成功制备得到了枝晶结构Cu‑Pt纳米花粒子,制备过程简单,周期短,相对于普通立方体形貌的Cu‑Pt纳米粒子具有更大比表面积和更好的应用前景。

    一种枝晶结构Cu-Pt纳米花粒子的制备方法

    公开(公告)号:CN106216708A

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201610714866.8

    申请日:2016-08-24

    Applicant: 中南大学

    CPC classification number: B22F9/24 B22F1/0044 B82Y30/00 B82Y40/00

    Abstract: 本发明提供了一种枝晶结构Cu-Pt纳米花粒子的制备方法,包括以下步骤:(1)将CuCl2·2H2O、聚乙烯吡咯烷酮、抗坏血酸和乙二醇混合,通入氮气,使氮气充分扩散至整个反应体系;(2)加热至60-100℃,反应;(3)加入氯铂酸溶液,进一步加热至120-180℃,反应,冷却;(4)分离,洗涤,得到产物;其中,CuCl2·2H2O与氯铂酸的摩尔比为5:3。本发明成功制备得到了枝晶结构Cu-Pt纳米花粒子,制备过程简单,周期短,相对于普通立方体形貌的Cu-Pt纳米粒子具有更大比表面积和更好的应用前景。

    一种Marks十面体Pd纳米粒子的制备方法

    公开(公告)号:CN103934470B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201410135490.6

    申请日:2014-04-04

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种Marks十面体Pd纳米粒子的制备方法,本发明的制备方法简单,将PdCl2和聚乙烯吡咯烷酮溶解在水中,通过水热法制备产物。聚乙烯吡咯烷酮在反应过程中既作为还原剂,又作为稳定剂,且通过控制PdCl2和聚乙烯吡咯烷酮的质量比以及反应参数,不仅成功制备得到本发明的产物,且其产率达到30~35%,具有很好的实际应用价值。制备得到的Marks十面体Pd纳米粒子相对已有的普通十面体Pd纳米粒子具有更高的稳定性以及更广泛的用途。

    一种Marks十面体Pd纳米粒子的制备方法

    公开(公告)号:CN103934470A

    公开(公告)日:2014-07-23

    申请号:CN201410135490.6

    申请日:2014-04-04

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种Marks十面体Pd纳米粒子的制备方法,本发明的制备方法简单,将PdCl2和聚乙烯吡咯烷酮溶解在水中,通过水热法制备产物。聚乙烯吡咯烷酮在反应过程中既作为还原剂,又作为稳定剂,且通过控制PdCl2和聚乙烯吡咯烷酮的质量比以及反应参数,不仅成功制备得到本发明的产物,且其产率达到30~35%,具有很好的实际应用价值。制备得到的Marks十面体Pd纳米粒子相对已有的普通十面体Pd纳米粒子具有更高的稳定性以及更广泛的用途。

    一种超薄Mo-Re合金箔材的制备方法

    公开(公告)号:CN103100563A

    公开(公告)日:2013-05-15

    申请号:CN201310028339.8

    申请日:2013-01-25

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明提供了一种超薄Mo-Re合金箔材的制备方法,属于Mo-Re合金加工技术领域。本发明克服了难以制备出厚度小于10μm、表面质量良好的Mo-Re合金箔材的难题,成功制备出了厚度为3~5μm、表面质量良好的Mo-Re合金箔材。本发明的制备方法包括粉末冶金法制备合金坯锭、冷轧开坯、冷轧/真空退火的循环操作以及3~5μm箔材的退火等步骤。本发明所制备的合金箔材其成分范围为:Re:43.5~47.5wt%,余量为Mo;其厚度为3~5μm。本发明工艺简单;所制备的箔材的弹性系数为340~350GPa、1200℃时的抗拉强度220~260MPa、显微硬度420~450HV、表面粗糙度(Rmax)0.02~0.05μm,适用于航空航天设备中大功率微波管和行波管等真空器件。

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