基于F-DMAS和伪彩色的超声相控阵缺陷成像方法

    公开(公告)号:CN114187291B

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202210131398.7

    申请日:2022-02-14

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明提供了一种基于滤波延迟乘累加(F‑DMAS)和CMYK伪彩色的超声相控阵缺陷成像方法,并引入了自动彩色图像分割技术来检测强衰减材料中的缺陷。首先,采用F‑DMAS算法对全矩阵捕捉(FMC)数据进行后处理。然后,分析了频率成分的选择对F‑DMAS成像的影响,讨论了衰减对缺陷回波的影响。接着,利用伪彩色技术对信号的频率分量进行分离,生成具有频率和强度信息的彩色图像,以提高超声图像的信息量和缺陷的表达效果。最后,对伪彩色成像结果进行彩色图像分割和边缘检测,实现缺陷轮廓的自动提取。与线性全聚焦成像方法相比,本发明的方法在缺陷的信噪比,检测能力和表达效果等方面具有显著优势。

    基于F-DMAS和伪彩色的超声相控阵缺陷成像方法

    公开(公告)号:CN114187291A

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202210131398.7

    申请日:2022-02-14

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明提供了一种基于滤波延迟乘累加(F‑DMAS)和CMYK伪彩色的超声相控阵缺陷成像方法,并引入了自动彩色图像分割技术来检测强衰减材料中的缺陷。首先,采用F‑DMAS算法对全矩阵捕捉(FMC)数据进行后处理。然后,分析了频率成分的选择对F‑DMAS成像的影响,讨论了衰减对缺陷回波的影响。接着,利用伪彩色技术对信号的频率分量进行分离,生成具有频率和强度信息的彩色图像,以提高超声图像的信息量和缺陷的表达效果。最后,对伪彩色成像结果进行彩色图像分割和边缘检测,实现缺陷轮廓的自动提取。与线性全聚焦成像方法相比,本发明的方法在缺陷的信噪比,检测能力和表达效果等方面具有显著优势。

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