公开(公告)号：CN104838040A

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201380064446.4

申请日：2013-12-04

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李明翰 ,  具炳秀 ,  曹三永 ,  李骐范

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/30

CPC classification number: C23F1/18 ,  C23F1/38 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/45 ,  H01L29/458

Abstract: 本发明公开一种能够同时蚀刻铜膜和氧化铟锡膜的双重膜或铜膜和金属膜的双重膜的蚀刻液组合物及利用了该组合物的蚀刻方法。上述蚀刻液组合物包含：5至20重量％的过氧化氢；0.1至5重量％的磺酸化合物；0.1至2重量％的羰基类有机酸化合物；0.1至0.4重量％的氟化合物；0.01至3重量％的唑类化合物；以及，其余重量％的水。

公开(公告)号：CN104838040B

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201380064446.4

申请日：2013-12-04

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李明翰 ,  具炳秀 ,  曹三永 ,  李骐范

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/30

CPC classification number: C23F1/18 ,  C23F1/38 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/45 ,  H01L29/458

Abstract: 本发明公开一种能够同时蚀刻铜膜和氧化铟锡膜的双重膜或铜膜和金属膜的双重膜的蚀刻液组合物及利用了该组合物的蚀刻方法。上述蚀刻液组合物包含：5至20重量％的过氧化氢；0.1至5重量％的磺酸化合物；0.1至2重量％的羰基类有机酸化合物；0.1至0.4重量％的氟化合物；0.01至3重量％的唑类化合物；以及，其余重量％的水。