公开(公告)号：CN112242293A

公开(公告)日：2021-01-19

申请号：CN202010098960.1

申请日：2020-02-18

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 阿部周平

IPC: H01K1/64

Abstract: 本发明提供一种能够在产生开裂之前切断线圈的通电的加热器。实施方式所涉及的加热器具备：筒状部，其内部封入有包含卤素的气体；密封部，分别设置在筒状部的两侧的端部；导电部，分别设置在密封部的内部；线圈，设置在筒状部的内部且沿筒状部的管轴延伸；支线，分别设置在线圈的两侧的端部，且其一侧的端部侧在密封部的内部与导电部电连接，其另一侧的端部侧在筒状部的内部与线圈电连接，所述支线包含钨；至少一个引线，其一侧的端部侧在密封部的内部与导电部电连接，而其另一侧的端部侧则从密封部暴露在外；及切断控制部，在筒状部的内部设置在分别设置于线圈的两侧的端部的支线中的至少一个支线上。

公开(公告)号：CN118730987A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410110658.1

申请日：2024-01-26

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 阿部周平 ,  日野弘喜 ,  樱井公人 ,  前田晶子 ,  竹村真也 ,  安斋爱子 ,  伊东慧

IPC: G01N21/64 ,  G01N21/01 ,  A61L2/10

Abstract: 本发明提供一种能够对被照射物照射有效防腐的光量的紫外线的紫外线照射装置、能够对被照射物中的紫外线照射量进行评估的状态评估装置以及被照射物的处理系统。根据实施方式，紫外线照射装置具有发光器及处理器。发光器发出对被照射物照射的200nm至300nm波长的紫外线。处理器对于由搬送装置所搬送的被照射物，在周围温度为5℃至30℃且相对湿度为90％RH的环境下，以成为50mJ/cm2以上的照射量的方式来照射发光器所发出的紫外线。

公开(公告)号：CN115246665A

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202210081018.3

申请日：2022-01-24

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 阿部周平

IPC: C02F1/32

Abstract: 本发明提供一种即使是浸渍在进行处理的液体中的液体处理装置，也可实现维护性的提高的液体处理装置。实施方式的液体处理装置是浸渍在进行处理的液体中的液体处理装置。液体处理装置包括：框体，呈柱状，具有在其中一端部开口的凹部；光源，设置在所述凹部的内部，且具有能够照射紫外线的发光元件；窗，堵塞所述凹部的开口，且能够透过所述紫外线；以及密封件，设置在所述窗与所述框体之间，且以由所述凹部与所述窗划分出的空间成为液密的方式进行密封。所述框体含有陶瓷。

公开(公告)号：CN115124108A

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN202210064451.6

申请日：2022-01-20

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 加藤刚雄 ,  出口诚 ,  田中贵章 ,  阿部周平 ,  饭田诚也

IPC: C02F1/32 ,  A61L2/10 ,  A61L2/26 ,  A61L9/20 ,  B01D53/00

Abstract: 本发明提供一种可实现容器的大型化与制造成本的减少的流体杀菌装置。实施方式的流体杀菌装置包括：容器，在内部具有进行处理的流体能够流通的空间，且含有金属；光源，能够向所述容器的所述空间照射紫外线；以及至少一个第一反射部或第二反射部，设置在所述容器的内表面。所述第一反射部呈片状，且含有氟树脂。所述第二反射部呈膜状，且含有硅酮树脂。

公开(公告)号：CN217851200U

公开(公告)日：2022-11-22

申请号：CN202221820346.2

申请日：2022-07-15

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 樱井公人 ,  阿部周平 ,  前田晶子 ,  竹村真也

IPC: A23L3/28 ,  A23L3/26 ,  A23B4/015

Abstract: 本实用新型提供一种能够实现小型化以及低成本化的食品的处理装置。实施方式的食品的处理装置对食品照射至少具有紫外线区域的波长的处理光。所述食品的处理装置包括：移动部，能够使所述食品沿第一方向移动；照射部，具有发光元件或放电灯，能够对沿所述第一方向移动的所述食品照射所述处理光；以及反射体，与所述照射部相向，将未入射至所述食品的所述处理光的一部分反射向沿所述第一方向移动的所述食品。

公开(公告)号：CN215886449U

公开(公告)日：2022-02-22

申请号：CN202121930212.1

申请日：2021-08-16

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 阿部周平 ,  加藤刚雄

IPC: C02F1/32

Abstract: 本实用新型提供一种流体杀菌装置，其能够抑制杂质附着，其具备：筒部；供给头，设置在所述筒部的一侧端部；排出头，设置在所述筒部的另一侧端部，并且具有贯穿所述排出头的筒部侧的端面和所述排出头的与筒部侧相反一侧的端面之间的孔；基板，设置在所述排出头的所述孔的内部；发光元件，设置在所述基板的所述筒部侧的表面上，并且照射出紫外线；及窗，设置在所述排出头，并且与所述发光元件对置，所述筒部的内侧表面的表面粗糙度Ra为50nm以下。